Si表面上におけるハロゲン含有ガス分子の熱分解過程
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概要
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The mechanisms and the characteristics of a pyrolytic process of halogen-containing gases are investigated theoretically and experimentally. A calculation method of analyzing chemical reactions on solid surfaces is proposed. The dissociation process of C1_2 and SF6 gas molecule on a Si (100) surface is investigated by calculating the local energy of the molecule, and a model of the pyrolytic process is proposed. It is confirmed that the dissociation energy of the molecule decreases due to a specific process on the solid surface which can not operate on the oxidized Si surface, and that the dissociation process of CF_4 gas molecule is promoted by oxygen gas molecule.
- 公益社団法人精密工学会の論文
- 1989-08-05
著者
-
宮崎 眞
京都工芸繊維大学大学院
-
後藤 英和
京都工芸繊維大学工芸学部
-
土屋 八郎
京都工芸繊維大学
-
森 勇蔵
大阪大学工学部
-
安田 光宏
住友電気工業(株)
-
広瀬 喜久治
帝国女子大学
-
後藤 英和
阪大院工
-
宮崎 真
京都工芸繊維大学工芸学部
-
植松 克彰
関西日本電気(株)
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