レーザー誘起熱化学反応を利用したセラミックスの加工 : CF_4ガス雰囲気中での加工特性
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概要
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C0_2 Iaser was used to induce localized thermo-chemical etching of ZrO_2,Al_2O_3 and Si_3N_4 in CF_4 gas, and the etching characteristics were investigated. The etching rate obtained in CF_4 gas was several times greater than the one obtained in air. The etched hole was not accompained by surface cracks and melted materials, and the crystal grain was observed on the etched surface.
- 公益社団法人精密工学会の論文
- 1988-05-05
著者
-
宮崎 眞
京都工芸繊維大学大学院
-
後藤 英和
京都工芸繊維大学工芸学部
-
土屋 八郎
京都工芸繊維大学
-
森 勇蔵
大阪大学工学部
-
安田 光宏
住友電気工業(株)
-
後藤 英和
阪大院工
-
安田 光宏
京都工芸繊維大学大学院
-
河原 康司
松下冷機(株)
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