プラズマイオン注入特性に与えるイオンシースの挙動
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2000-06-15
著者
-
政宗 貞男
京都工芸繊維大学
-
行村 建
同志社大学
-
Masamune Sadao
Institute Of Plasma Physics Nagoya University:department Of Electrical Engineering Kyoto Institute O
-
行村 建
同志社大学工学部
関連論文
- XeClエキシマレーザ励起放電におけるアーク移行と金属スペクトルの発生
- 表面波プラズマが照射されたイオン液体の物性変化
- 直線型イオンプラズマと電子プラズマを用いた二流体プラズマ実験の検討
- 低アスペクト比逆磁場ピンチプラズマにおけるMHD現象
- 表面波プラズマ源の最適設計のためのシミュレーションコードの開発
- 正パルスバイアスPBII&D法によるTiNコーティングの予備実験
- CNx成膜のためのシャンティングアークを用いた炭素・窒素混合プラズマの生成
- RFPプラズマの抵抗性不安定性への外部回転摂動磁場の効果
- 8a-Q-3 水中過渡アーク放電の陽光柱
- 5a-K-1 液中過度アーク放電の気ほう II
- 磁気駆動型シャンティングアークプラズマからのイオン引き出しとシース近辺の密度の算定
- 正バイアス電極を用いたシャンティングアークによる誘起プラズマの生成
- シャンティングアーク放電誘起プラズマの電流特性
- 全方位シャンティングアーク放電による窒素を含むアモルファスカーボン薄膜生成
- ターゲット電流を用いたシャンティングアークプラズマの密度計測
- シャンティングアークアシストRF(195kHz)放電のイオン電流とイオン密度
- シャンティングアークアシストRF(195kHz)放電の発光スペクトル
- 21aWG-2 ヘリカル非中性プラズマの多重ディスラプション(プラズマ基礎(不安定性・波動),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 大気圧非平衡プラズマによるH_2/N_2/O_2系水素酸化特性とその反応メカニズム
- ZnOナノストラクチャーの化学的堆積について
- デュアルプラズマ配位におけるイオンエネルギーのガス圧力依存性
- 対向電極型大電力パルススパッタ(HPPS)グロー放電と195kHz-RF放電のハイブリッド放電におけるガス変化による電気的特性の違い
- デュアルプラズマ配位における絶縁性基材の帯電中和条件の検討
- ハイパワーパルススパッタ(HPPS)マグネトロン放電装置の特性
- 対向電極型ハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電からの金属イオンの引き出しおよび基材面のプラズマ密度
- ハイパワーパルススパッタ(HPPS)マグネトロン放電の電気的特性および発光スペクトル
- 対向電極型大電力パルススパッタ(HPPS)グロー放電と195kHz-RF放電によるハイブリッド放電の電気的特性
- シャンティングアークによる成膜プロセス
- シャンティングアーク放電プラズマの構造解析
- グリッド制御を用いたプラズマイオンプロセス
- ハイパワーパルススパッタグロー放電(HPPS)による発光スペクトルの観測およびプラズマ密度の検討
- 負パルス-デュアルプラズマ法の基礎特性とポリマー表面改質への応用
- 大気圧非平衡プラズマによる水素燃焼特性とその反応メカニズム
- ハイパワーパルススパッタグロー放電(HPPS)の電圧、電流特性および発光スペクトル
- 間欠誘電体バリア放電によるNOxガスの高効率直接脱硝
- 数十kW級大電力パルスグロー放電電気的特性の圧力依存性
- デュアルプラズマ配位の形成に対するグリッド粗さと印加電圧の効果
- デュアルプラズマイオンプロセスにおける絶縁性基材の帯電制御
- デュアルプラズマ含浸イオンプロセスによる絶縁物の表面処理
- STE-2 RFPにおける抵抗性シェル不安定性の研究
- 正バイアス電極を持つ間欠ジルコニウムPBII&D法による酸化ジルコニウム膜生成
- シャンティングアークを用いた窒素含有プラズマ生成とCNx成膜への適用
- シャンティングアークプラズマの大容積化と管内壁処理への適用
- PBII&D法によるRFスパッタを用いたカーボン膜およびタングステンカーボン膜生成
- 誘導結合型RFパルス放電を重畳させたハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電のアルゴン雰囲気下における電気的特性
- 対向電極型ハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電からの金属イオンの引き出しおよび基材面における発光スペクトル
- 発光スペクトルにみるハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電における磁界の効果
- ハイパワーパルススパッタグロー放電(HPPS)から引き出されたプラズマとイオン電流に関する検討
- ハイパワーパルススパッタグロー放電(HPPS)におけるプラズマ負荷特性の検討
- ドロップレットフリー数十kW級大電力パルススパッタリング(HPPS)グロープラズマの生成
- 6.2 今後の研究の進め方(6.まとめ,ITER時代における大学の革新的閉じ込め概念研究のあり方)
- 1.1 小特集のねらい(1.はじめに,ITER時代における大学の革新的閉じ込め概念研究のあり方)
- NOxガスの間欠誘電体バリア放電による高効率直接分解
- NOx処理における酸素の影響
- DBDラジカルインジェクション法による、メッシュ長さの変化においてのNOx処理
- 間欠型DBDを用いたアンモニアラジカルインジェクション法DeNOxにおける注入モル比と処理効率
- はじめに : プラズマイオンプロセス最前線
- プラズマイオン注入・堆積法の新しい展開
- 三次元イオン注入システム
- エキシマレーザアブレーションによる加工深さのパルス幅及びターゲット材依存性 : MDシミュレーションによる検討
- 間欠ジルコニウムアークPBII&D法によるジルコニア皮膜
- 間欠ジルコニウムアークPBII&D法によるジルコニア皮膜
- PBII&D法によるRFスパッタ銅イオンを用いた酸化銅成膜
- プラズマイオン注入における高密度プラズマ生成技術
- 10kHz-100kHzにおけるAC型PDP無声放電の電気的特性
- Xe_2エキシマランプにおける無声放電の電気的特性及び発光特性
- 沿面無声放電による真空紫外光強度の増強に関する研究
- イオンの輸送課程
- Control of RFP Dynamics Using External Helical Fields
- RFPプラズマへの回転ヘリカル磁場印加実験
- RFPの抵抗性壁不安定性に関する考察
- RFPへの共鳴回転ヘリカル磁場印加
- バーストRFプラズマにおけるイオン電流解析
- 2.3 逆磁場ピンチの性能向上(2.高ベータ自己組織化プラズマ研究の最近の展開,ITER時代における大学の革新的閉じ込め概念研究のあり方)
- プラズマイオンプロセスシミュレーション
- 磁気閉じ込め核融合プラズマにおけるダイナモと自己組織化現象
- E×Bドリフトを利用した電子偏向システムの開発
- マルンバーグトラップ中における電子プラズマの不安定性の計測
- 2流体プラズマ生成のための非中性プラズマを用いた試行実験
- PBII用パルスプラズマ源からのイオン引出しモデル
- パルスプラズマにおける過渡イオンシースについて
- RFPにおけるベータ限界の研究
- 特集にあたって
- プラズマイオンプロセスの解析とシミュレーション : PBIIを中心として
- 逆磁場ピンチにおける核融合研究の現状と長期的展望
- カーボンシャンティングアークの発生とDLC生成
- 非金属材料のシャンティングアーク実験とDLC堆積
- プラズマイオン注入特性に与えるイオンシースの挙動
- 立体磁気軸ヘリオトロンJ磁気面上における純電子プラズマの閉じ込め実験
- シングルスロット型表面波プラズマ源のための3次元シミュレーションコードの開発
- 球状RFP装置RELAXにおける不整磁場の能動的制御
- 球状RFP装置RELAXにおけるマルチコード軟X線計測
- 表面波プラズマから引き出されたイオン粒子束のイオン液体への照射 : 金属製メッシュを用いたイオン制御装置の開発
- 純リチウムイオンプラズマ生成トラップ実験
- 球状RFPプラズマにおける画像計測
- STE-2におけるRFP研究の現状
- パルスイオン流と定常イオン流の流れについて
- 2. 磁場閉じ込め装置におけるプラズマ制御 : 2.3 RFPにおけるプラズマ制御 : 核融合装置におけるプラズマ平衡制御
- F-Θポンピング
- 非線形プラズマ実験-8-RFPにおける非線形現象と自己組織化