半導体材料ガス中に浮遊する微粒子の光散乱法による検出
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2002-11-10
著者
-
奥山 喜久夫
広島大学工学研究科
-
島田 学
広島大学大学院工学研究科物質化学システム専攻化学工学講座
-
島田 学
広島大学工学部
-
近藤 郁
リオン株式会社
-
Okuyama K
Hiroshima Univ. Higashi‐hiroshima Jpn
-
Okuyama K
Hiroshima Univ. Hiroshima Jpn
-
今城 祐二
寿工業株式会社
-
今城 祐二
広島大学工学研究科物質化学専攻
-
奥山 喜久夫
広島大学工
関連論文
- 多分散シングルナノ粒子用光子相関装置の製作と性能評価
- QCMによるケミカルエアフィルタの寿命判定手法の検討
- 機能性ナノ粒子の合成と応用
- ナノ粒子の合成と機能 ナノ粒子の合成と機能性材料への応用展開 (特集 ハイブリッド材料への期待) -- (ハイブリッド材料の合成と機能)
- ナノ粒子の合成・機能化とナノテクノロジーへの展開
- レーザ光散乱法によるたばこ主流煙の性状変化測定
- 2次元偏光レーザ光散乱法によるたばこ副流煙の測定
- UV/光電子法を用いた減圧下での微粒子除去
- 静電霧化における放電メカニズムの解析
- CVD-Al_2O_3反応におけるH_2S添加効果に関する研究
- エアフィルタにおけるシングルナノ粒子の捕集挙動
- Fabrication and Characterization of SiO_2 Particles Generated by Spray Method for Standards Aerosol
- 静電噴霧法による液滴およびイオンの発生
- エアロゾルの生成とその工業利用-エアロゾルテクノロジーとセラミックスとの接点
- 会議概要
- 減圧噴霧熱分解法による機能性粒子の製造
- 垂直型 MOCVD 反応器における GaN 薄膜の成膜速度分布に及ぼす圧力と流量の影響
- 垂直型MOCVD反応器におけるGaN薄膜の成膜速度分布の実験とシミュレーションによる検討 : バルク成長シンポジウム
- DMA内部の粒子濃度の偏りに及ぼす構造と操作条件の影響のシミュレーションによる検討
- DMA内部の流れに及ぼす操作条件の影響のシミュレーションによる検討
- (60)広島大学工学部のアンケート方式による外部評価について(第17セッション 自己評価)
- 静電霧化微粒子水における電荷数の解析
- PECVDプロセスにおける生成ダスト微粒子のための小型レーザ光散乱モニタリング装置の開発
- デニューダによるたばこ主流煙の蒸発特性の測定
- 高周波非平衡プラズマ中の微粒子の計測と制御
- CVDによるナノ粒子の生成プロセスにおける核生成と成長
- DMAによる分級・計測の向上のための軟X線荷電器とファラデーカップ電流計の適用
- PECVD成膜装置内での粒子汚染現象に対する操作流量の影響
- 新規変調プラズマによるSiH4/H2プラズマCVDリアクター内のダスト微粒子の抑制
- 次世代プラズマプロセスの開発 (特集 次世代科学技術の展望)
- (50)広島大学工学部の学生による授業評価について(第15セッション 教育評価)
- プロセスプラズマ領域内浮遊粒子の吸引測定
- 23aB1 シリコンエピタキシャル成長におけるホウ素取り込みの数値計算モデル(エピタキシャル成長I)
- SiHCl_3-H_2系シリコン気相エピタキシャル成長の化学種観察 : 気相成長III
- クリーンルームの有機化合物発生量に対する空調温度と高濃度トルエン暴露の影響
- ガス状有機汚染物質の壁面付着量の実時間計測と付着挙動の評価
- 減圧場での DMA を用いた Ag ナノ粒子の粒径測定と分級特性
- 凝集粒子の生成・成長過程のシミュレーション
- Direct Measurement of Nucleation and Growth Modes in Titania Nanoparticles Generation by a CVD Method
- ソースガスのイオン化によるCVD成膜装置内における粒子発生の抑制
- シリコンエピタキシャル成長におけるドーパントガスの輸送現象解析
- シリコンエピタキシャル成長の三次元シミュレーション
- 回転基板上へのシリコンエピタキシャル成長の三次元数値解析
- 輸送現象と表面反応を考慮した SiHCl_3-H_2 系 Si エピタキシャル成長の三次元数値解析
- Plasma Synthesis of Light Emitting Gallium Nitride Nanoparticles Using a Novel Microwave-Resonant Cavity
- The Influence of the Synthetic Conditions of Chemical Vapor Synthesis on the Size of Gallium Nitride Nanoparticles
- 「粉体ナノテクノロジー」をはじめるにあたって
- プラズマを用いた半導体製造装置内のパーティクル発生・成長・挙動の可視化
- プラズマプロセス中でのダスト粒子の捕捉挙動の吸引法による計測
- UV/光電子法による壁面付着微粒子の除去の促進
- UV/光電子法による管型微粒子除去装置の性能評価
- プラズマを用いた半導体製造装置内のパーティクル発生・成長・挙動の可視化 (特集 空気清浄における可視化技術の基礎と実用例)
- Effects of Mobility Changes and Distribution of Bipolar Ions on Aerosol Nanoparticle Diffusion Charging
- Development of an LDMA-FCE System for the Measurement of Submicron Aerosol Particles
- One-step Preparation of BaTiO_3 Nanoparticles by Liquid Source Chemical Vapor Deposition
- エアロゾルプロセスによって製造した導電性酸化亜鉛微粒子の形態と電気特性
- CVD法により製造したアルミニウムをドープした酸化亜鉛粒子の形態および電気特性
- 噴霧熱分解法で合成したAg-Pd複合微粒子の酸化挙動
- α線照射によるSO_2ガス - 粒子転換におよぼすNO_2ガスの影響
- DMA-高感度電流計システムを用いた噴霧乾燥法によるエアロゾル粒子の計測
- 21世紀へのコンタミネーションコントロール技術の期待
- クリーン化技術教育ソフトシリーズ(CD-ROM)「クリーンへの挑戦I」ミクロ・クリーン時代の扉を開く 「クリーンへの挑戦II」歩留まりアップはプロセスのクリーン化から
- 下流端がオリフィスより絞られた導管内自由分子流通気流動における管壁面上分子数密度分布
- 管型反応器における溶媒を添加したスチレン重合反応の実験およびシミュレーションによる評価
- 環状赤外線放射加熱炉における加熱分布の数値解析
- 容器内流れにおける粒子状・ガス状物質の輸送の測定と数値シミュレーション
- エアロゾル粒子の沈着現象に対する理論的評価手法
- ガス中浮遊粒子の静電気力による沈着と捕集
- 静電噴霧法による微粒子の製造
- 特集にあたって
- 容器内の層流および乱流の流れ場における粒子状・ガス状物質の輸送現象の実験と計算による検討
- 半導体材料ガス中に浮遊する微粒子の光散乱法による検出
- エアロゾル基礎, 1.核生成現象の理解にむけて
- 電流計内蔵型クラスタDMAの性能評価とイオンの電気移動度測定への応用
- スチレン重合反応の評価と制御 (特集 化学工学のフロンティア)
- 常圧CVD法によるZnO超微粒子の生成とその紫外線遮蔽特性
- 噴霧乾燥法による紫外線遮蔽性複合微粒子の生成とその光学特性
- 4. CVD の化学工学 CVD 反応器シミュレーション
- 層流管型反応器におけるスチレン熱重合反応の測定と解析
- エアフィルタによるナノ粒子捕集の研究現状
- 静電噴霧熱分解法による金属硫化物超微粒子の製造
- 噴霧熱分解法によるZnS-CdS系固溶体微粒子の作製
- 気-液共存系の不均一核生成による相変化における過冷却度の評価
- プラズマ中の微粒子の挙動
- ポリマ-重合反応の数値シミュレ-ション (流れの数値解析と化学装置設計)
- 粉体工学講座-6-粒子特性制御工学-1-最近の微粒子製造技術-2-大きさの制御-2-気相,液相,固相からの合成-2-
- 粉体工学講座-5-粒子特性制御工学-1-最近の微粒子製造技術
- 酸性蒸気と水蒸気の混合による酸性エアロゾルの発生 (微粒子分散技術と応用)
- 超音波噴霧熱分解法によるZnO微粒子の生成とその微細構造
- CVDによる薄膜および微粒子生成の制御 (粒子分散制御と応用)
- パーティクルカウンタの動向と生産プロセス中浮遊粒子への適応
- 吸引方式を用いた光散乱法によるプラズマ CVD 中の real-time 粒子測定
- 半導体製造装置内生成粒子の測定
- 電子メール
- リセプターモデル
- Biopolar Charging of Aerosol Nanoparticles by a Soft X-ray Photoionizer
- セミコン・ジャパン2007
- セミコンジャパン見学記
- 広島大学工学部のアンケート方式による外部評価について
- 液中パーティクルカウンターの最新技術と標準化の動向