クリーンルームの有機化合物発生量に対する空調温度と高濃度トルエン暴露の影響
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概要
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半導体製造工場における分子汚染対策のために、クリーンルームの有機化合物の発生に与える空調温度と高濃度トルエン暴露の影響を検討した。試験用クリーンルームの空調温度を23℃から33℃に昇温すると気中有機化合物濃度が増加し、その後再び23℃にすると低沸点成分は減少して表面へ吸着すると考えられる。クリーンルーム内で高濃度のトルエンを暴露するとトルエンが表面に吸着され、その後の表面からのトルエン発生量は、外気による換気時間およびトルエン暴露量と相関がある。また、23℃〜33℃における表面からのトルエン脱離速度と脱離の活性化エネルギーを測定した。
- 社団法人空気調和・衛生工学会の論文
- 2003-04-25
著者
-
奥山 喜久夫
広島大学大学院工学研究科 物質化学システム専攻
-
島田 学
広島大学大学院 工学研究科 物質化学システム専攻
-
島田 学
広島大学大学院工学研究科物質化学システム専攻化学工学講座
-
奥山 喜久夫
広島大学大学院 工学研究科 物質化学システム専攻
-
Okuyama K
Hiroshima Univ. Higashi‐hiroshima Jpn
-
本田 重夫
広島大学大学院工学研究科:(株)朝日工業社技術研究所
-
奥山 喜久夫
広島大学大学院 工学研究院
-
Okuyama K
Hiroshima Univ. Hiroshima Jpn
-
本田 重夫
(株)朝日工業社 技術研究所
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