プラズマCVDプロセスにおける微粒子の挙動と微粒子汚染制御手法
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
The application of plasma processing technologies to the engineering and industrial fields is expanding. Fine particles suspended in plasma, often called plasma dust, are known to be a major factor of disturbing the manufacturing processes of electronic devices, etc. Therefore, studies on the formation and behavior of fine particles in plasma are important from the viewpoint of developing methods to control plasma dust. In this article, recent studies are introduced on the observation and discussion for dust in a plasma CVD reactor using a particle visualization technique based on laser light scattering, and on the methods for suppressing particulate contamination by plasma dust.
- 2006-09-20
著者
関連論文
- QCMによるケミカルエアフィルタの寿命判定手法の検討
- エアロゾル国際会議2006参加報告
- レーザ光散乱法によるたばこ主流煙の性状変化測定
- 2次元偏光レーザ光散乱法によるたばこ副流煙の測定
- AAAR2003報告
- CVD-Al_2O_3反応におけるH_2S添加効果に関する研究
- エアフィルタにおけるシングルナノ粒子の捕集挙動
- 会議概要
- PECVDプロセスにおける生成ダスト微粒子のための小型レーザ光散乱モニタリング装置の開発
- デニューダによるたばこ主流煙の蒸発特性の測定
- 「ナノテク」におけるナノ粒子の役割と期待される新機能材料への展開 (特集1 ブレイクスルーへの足掛かり!--光分野における「ナノテク」技術のいまを読む)
- 高周波非平衡プラズマ中の微粒子の計測と制御
- CVDによるナノ粒子の生成プロセスにおける核生成と成長
- プラズマCVDプロセスにおける微粒子の挙動と微粒子汚染制御手法
- DMAによる分級・計測の向上のための軟X線荷電器とファラデーカップ電流計の適用
- PECVD成膜装置内での粒子汚染現象に対する操作流量の影響
- 新規変調プラズマによるSiH4/H2プラズマCVDリアクター内のダスト微粒子の抑制
- 特集にあたって
- クリーンルームの有機化合物発生量に対する空調温度と高濃度トルエン暴露の影響
- ガス状有機汚染物質の壁面付着量の実時間計測と付着挙動の評価
- 第6回国際エアロゾル会議
- プラズマを用いた半導体製造装置内のパーティクル発生・成長・挙動の可視化
- プラズマプロセス中でのダスト粒子の捕捉挙動の吸引法による計測
- 特集にあたって
- 2005年「4th Asian Aerosol Conference (AAC-2005)」に参加して