プラズマを用いた半導体製造装置内のパーティクル発生・成長・挙動の可視化 (特集 空気清浄における可視化技術の基礎と実用例)
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概要
著者
-
守屋 剛
東京エレクトロン株式会社 技術開発センター
-
島田 学
広島大学大学院工学研究科物質化学システム専攻化学工学講座
-
Okuyama K
Hiroshima Univ. Higashi‐hiroshima Jpn
-
Okuyama K
Hiroshima Univ. Hiroshima Jpn
-
守屋 剛
東京エレクトロンat (株)技術開発センター
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守屋 剛
東京エレクトロン(株)技術開発センター
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