近藤 郁 | リオン株式会社

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概要

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関連著者

• 近藤 郁

  リオン株式会社

• 島田 学

  広島大学大学院工学研究科物質化学システム専攻化学工学講座

• Okuyama K

  Hiroshima Univ. Higashi‐hiroshima Jpn

• Okuyama K

  Hiroshima Univ. Hiroshima Jpn

• 奥山 喜久夫

  広島大学大学院工学研究科 物質化学システム専攻

• 島田 学

  広島大学大学院 工学研究科 物質化学システム専攻

• 奥山 喜久夫

  広島大学大学院 工学研究科 物質化学システム専攻

• 奥山 喜久夫

  広島大学大学院 工学研究院

• 今城 祐二

  寿工業株式会社

• 白谷 正治

  九州大学大学院システム情報科学研究院

• 林 豊

  広島大学大学院工学研究科物質化学システム専攻

• 奥山 喜久夫

  広島大学工学研究科

• 渡辺 征夫

  九州大学

• 渡辺 征夫

  九州大学大学院システム情報電子デバイス専攻

• Watanabe Yoshihide

  Toyota Central Research And Development Laboratories Inc.

• 島田 学

  広島大学工学部

• 林 豊

  広島大学大学院工学研究科

• Okuyama K

  Hiroshima Univ. Higashi‐hiroshima

• 奥山 喜久夫

  広島大学大李院工李研究科

• 近藤 郁

  リオン(株)環測技術部

• 今城 祐二

  広島大学大学院工学研究科 物質化学システム専攻

• 近藤 郁

  リオン株式会社環測技術部

• 奥山 喜久夫

  広島大学工学部 化学工学教室

• 白谷 正治

  九州大学

• 近藤 郁

  リオン株式会社 環境機器事業部開発部

• 今城 祐二

  広島大学工学研究科物質化学専攻

• 奥山 喜久夫

  広島大学工

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著作論文

• PECVDプロセスにおける生成ダスト微粒子のための小型レーザ光散乱モニタリング装置の開発
• プロセスプラズマ領域内浮遊粒子の吸引測定
• プラズマプロセス中でのダスト粒子の捕捉挙動の吸引法による計測
• 半導体材料ガス中に浮遊する微粒子の光散乱法による検出
• パーティクルカウンタの動向と生産プロセス中浮遊粒子への適応
• 吸引方式を用いた光散乱法によるプラズマ CVD 中の real-time 粒子測定
• 半導体製造装置内生成粒子の測定
• セミコン・ジャパン2007
• セミコンジャパン見学記
• 液中パーティクルカウンターの最新技術と標準化の動向

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