小幡 利顕 | ICORP-JST:東大工
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概要
関連著者
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小幡 利顕
ICORP-JST:東大工
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樽茶 清悟
東大工
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小幡 利顕
東大工
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Tarucha Seigo
Department Of Applied Physics The University Of Tokyo
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吉田 勝治
ICORP-JST
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樽茶 清悟
東大物理工
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申 潤錫
ICORP-JST
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小幡 利顕
ICORP-JST
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高倉 樹
東大工
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樽茶 清悟
Icorp-jst:東大工
著作論文
- 25pXG-9 微小磁石集積量子ドット電子双極子スピン共鳴におけるオーバーハウザー場の緩和測定セットアップ(量子ドット(スピン制御),領域4,半導体,メゾスコピック系・局在)
- 25pXG-8 微小磁石を用いた電子スピン共鳴におけるスピン緩和(量子ドット(スピン制御),領域4,半導体,メゾスコピック系・局在)
- 30pTX-13 微小磁石集積型EDSR量子ドットサンプルに見られる核スピンの動的分極効果(30pTX 量子ドット(結合系とスピン),領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- 20pYF-12 微小磁石を集積した量子ドットにおける選択的ラビ振動(20pYF 量子ドット,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- 25pXG-5 3スピン量子ビットの実装に向けた横型3重量子ドットの作製と評価(量子ドット(スピン制御),領域4,半導体,メゾスコピック系・局在)
- 22pYK-8 ナノスケール強磁性電極を有する電子フォーカシング素子における不均一磁場効果の観測(22pYK 半導体スピン物性,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- 24aWQ-2 Lateral dot fabrication by using a MOS electric gate on SiGe hetero structure
- 24aWQ-3 PdショットキーゲートによるSi/SiGe量子ドットの作製とその評価(24aWQ 量子ドット,領域4(半導体メゾスコピック系・局在))
- 26aWH-9 電子フォーカシングを用いたStern-Gerlach効果の観測(半導体スピン物性,領域4,半導体,メゾスコピック系・局在)
- 21aTA-5 量子ドット中の単一電子スピン共鳴のためのオンチップマイクロコイル開発(量子ドット,領域4,半導体,メゾスコピック系・局在)