アクタ ワシーム | 東大工
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概要
関連著者
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樽茶 清悟
東大工
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小田 俊理
東工大量子ナノエレ研セ
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小寺 哲夫
東大理
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小幡 利顕
東大工
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武田 健太
東大工
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小寺 哲夫
東工大量子ナノエレ研セ
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神岡 純
東工大量子ナノ研セ
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アクタ ワシーム
東大工
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樽茶 清悟
東大物理工
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樽茶 清悟
Ntt物基礎研:東大
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Tarucha Seigo
Department Of Applied Physics The University Of Tokyo
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樽茶 清吾
日本電信電話公社武蔵野通研
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Abstreiter G.
Walter Schottky Institut Technische Universitat Munchen
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澤野 憲太郎
東京都市大学
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小寺 哲夫
東工大量子ナノ研セ:東大ナノ量子機構:さきがけ-JST
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小幡 利顕
ICORP-JST:東大工
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白木 靖寛
東京都市大
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小寺 哲夫
東工大量子ナノ研セ
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Kierig J.
Regensburg大
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Wild A.
Walter Schottky inst.
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Sailer J.
東大工
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Bougeard D.
Regensburg大
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Bougeard D.
Regensburg大:Walter Schottky inst.
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樽茶 清悟
NTT電気通信研究所
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Abstreiter G.
Walter Schottky inst.
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澤野 憲太郎
東京都市大
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樽茶 清悟
NTT物性基礎研:東大理:ERATO Mesoscopic Correlation Project
著作論文
- 29aXQ-3 ノンドープSi/SiGeウェハーを用いた横型ドット開発(29aXQ 量子ドット,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- 27pDD-8 同位体制御したSiを用いたSi/SiGeにおけるダブルドット(量子ドット,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))