鮫島 俊之 | 東京農工大学 工学部
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概要
関連著者
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鮫島 俊之
東京農工大学 工学部
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鮫島 俊之
東京農工大工
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安藤 伸行
東京農工大学
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安藤 伸行
東京農工大・工学教育部21世紀coeプログラム
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渡壁 創
東京農工大学工学部
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佐野 直樹
ハイテックシステムズ
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東 清一郎
広島大学大学院先端物質科学研究科
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蓮見 真彦
東京農工大学工学部
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木村 睦
セイコーエプソン(株)基盤技術研究所
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木村 睦
セイコーエプソン 基盤技研
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滝内 芽
東京農工大工
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安東 靖典
日新イオン機器
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渡邊 整
東京農工大学工学部
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東 清一郎
セイコーエプソン(株)基盤技術研究所
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鮫島 俊之
東京農工大学 工学部電気電子工学科
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下川 光次郎
東京農工大学 工学部
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蓮見 真彦
東京農工大学 工学部
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東 清一郎
セイコーエプソン(株)アクティブデバイス研究室
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滝内 芽
東京農工大学 工学部
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東 清一郎
広島大学大学院 先端物質科学研究科
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安東 靖典
日新イオン機器株式会社
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宮尾 正信
九州大学大学院システム情報科学
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菅野 裕士
九州大学大学院システム情報科学
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浅見 雅彦
東京農工大学工学部
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鎌田 耕太郎
東京農工大学工学部
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内藤 勝男
日新イオン機器
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佐野 直樹
株式会社ハイテック・システムズ
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甕 克行
東京農工大学工学部
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牧 正人
東京農工大学工学部
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安藤 伸行
成蹊大学
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大北 圭介
東京農工大学工学部
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金子 吉保
東京農工大学工学部
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浅見 雅彦
東京農工大学
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宇川 康
東京農工大学 工学部
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巾 智紀
東京農工大学 工学部
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水谷 勇太
東京農工大学 工学部
著作論文
- カーボン光吸収層を用いたシリコン膜の半導体レーザ結晶化(シリコン関連材料の作製と評価)
- シリコンゲルマニウム膜のレーザ結晶化(半導体Si及び関連材料・評価)
- カーボン光吸収層を用いたシリコン膜の結晶化(半導体Si及び関連材料・評価)
- ゲルマニウム薄膜のレーザ結晶化(シリコン関連材料の作製と評価)
- 半導体レーザ加熱処理による浅い接合形成(シリコン関連材料の作製と評価)
- 多結晶シリコン薄膜トランジスタの動作解析(シリコン関連材料の作製と評価)
- シリコン薄膜のレーザ結晶化(シリコン関連材料の作製と評価)
- SC-8-8 Fabrication of poly-Si TFTs at low temperratures and analysis of their characteristics
- 多結晶シリコン薄膜トランジスタ解析
- 紫外線プラズマ照射によるSiO_2/Si界面及びSi中の電気特性変化(シリコン関連材料の作製と評価)
- SiO_2/Si界面の特性の解析(半導体Si及び関連材料・評価)
- イオンドーピングした不純物の活性化(シリコン関連材料の作製と評価)
- 多結晶シリコンヘイオンドーピングされたドーパントの低温活性化(半導体Si及び関連材料・評価)
- 電流加熱結晶化法によるシリコン薄膜の結晶化(低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集)
- 固相成長多結晶シリコン膜の電気的特性の解析
- 多結晶シリコン薄膜の形成技術
- 水蒸気熱処理による欠陥低減とSiO_2/Si界面改質
- 多結晶シリコン膜における結晶粒界のデバイスシミュレーション
- 高品質多結晶シリコン薄膜の形成技術とその電気的特性
- 多結晶シリコン膜における結晶粒界のデバイスシミュレーション
- プラズマ照射によるMOS構造の電気特性変化
- 水蒸気熱処理による市販ソーラーセルの欠陥低減に関する検討
- レーザーアニールによるシリコン結晶化技術とそのデバイス応用 解説小特集号によせて
- 薄膜トランジスタプロセスの最近の展開
- 高品質多結晶シリコン薄膜の形成技術とその電気的特性