菅野 裕士 | 九州大学大学院システム情報科学
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概要
関連著者
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菅野 裕士
九州大学大学院システム情報科学
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宮尾 正信
九州大学大学院システム情報科学
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佐道 泰造
九州大学大学院システム情報科学
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権丈 淳
九州大学大学院システム情報科学
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佐道 泰造
Kyushu Univ. Fukuoka Jpn
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Kenjo A
Kyushu Univ.
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角田 功
九州大学大学院システム情報科学
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九州大学大学院システム情報科学
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角田 功
九大 大学院
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鮫島 俊之
東京農工大工
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渡壁 創
東京農工大学工学部
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鮫島 俊之
東京農工大学 工学部
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菅野 裕士
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
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佐道 泰造[他]
九州大学大学院システム情報科学研究科電子デバイス工学専攻
著作論文
- 触媒金属を用いた非晶質SiGe薄膜/ガラスの低温固相成長(研究会推薦論文,半導体材料・デバイス)
- ガラス上に於ける多結晶SiGeの低温固相成長
- Ni触媒誘起固相成長法を用いた次世代TFT用多結晶Si_Ge_x(0≦x≦1)薄膜の低温形成
- 触媒金属を用いた非晶質SiGe薄膜/ガラスの低温固相成長(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
- 触媒金属を用いた非晶質SiGe薄膜/ガラスの低温固相成長(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
- 触媒金属を用いた非晶質SiGe薄膜/ガラスの低温固相成長(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
- シリコンゲルマニウム膜のレーザ結晶化(半導体Si及び関連材料・評価)
- 絶縁膜上におけるSiGe結晶成長とデバイス応用(IV族系半導体結晶・混晶の新たなる展開)
- 絶縁膜上におけるSiGe薄膜の低温形成と次世代ディスプレー(有機ELとTFT(シリコン、化合物、有機)及びディスプレイ技術)
- 絶縁膜上におけるSiGe薄膜の低温形成と次世代デイスプレー(有機ELとTFT(シリコン,化合物,有機)及びディスプレイ技術)
- 絶縁膜上におけるSiGe薄膜の低温形成と次世代ディスプレー(有機ELとTFT(シリコン,化合物,有機)及びディスプレイ技術)
- 触媒金属誘起成長法によるSi_1-XGe_X/SiO_2の低温固相成長
- 次世代ULSI・ディスプレイのための擬似単結晶SiGe形成技術の開発