東 清一郎 | セイコーエプソン(株)基盤技術研究所

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概要

• 同名の論文著者
• セイコーエプソン(株)基盤技術研究所の論文著者

関連著者

• 東 清一郎

  セイコーエプソン(株)基盤技術研究所

• 東 清一郎

  セイコーエプソン(株)アクティブデバイス研究室

• 木村 睦

  セイコーエプソン(株)基盤技術研究所

• 木村 睦

  セイコーエプソン 基盤技研

• 鮫島 俊之

  東京農工大工

• 鮫島 俊之

  東京農工大学 工学部

• 東 清一郎

  セイコーエプソン(株)テクノロジープラットホーム研究所

著作論文

• 多結晶シリコン膜における結晶粒界のデバイスシミュレーション
• 多結晶シリコン膜における結晶粒界のデバイスシミュレーション
• FPD2 : AMLCD(I)(1995年 SID国際シンポジウム報告)
• 1995年SID国際シンポジウム報告 : FPD2: AMLCD(1)
• レーザーアニールにおけるシリコン膜の極短時間溶融・固化現象と膜物性

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