新田 智洋 | 東芝
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概要
関連著者
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新田 智洋
東芝
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齋藤 泰伸
東芝
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垣内 頼人
東芝
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齋藤 渉
東芝セミコンダクター社
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新田 智洋
東芝セミコンダクター社
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垣内 頼人
東芝セミコンダクター社
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齋藤 泰伸
東芝セミコンダクター社
-
齋藤 渉
東芝
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野田 隆夫
東芝
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吉岡 啓
東芝
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藤本 英俊
東芝
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大村 一郎
東芝セミコンダクター社
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大村 一郎
九州工業大学
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津田 邦男
東芝研究開発センター
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山口 正一
東芝セミコンダクター社
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大村 一郎
株式会社 東芝
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山口 正一
株式会社 東芝
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山口 正一
(株)東芝セミコンダクター社
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大野 哲也
東芝
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Tsuda Kunio
Advanced Electron Devices Laboratory Corporate R&d Center Toshiba Corporation
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津田 邦男
東芝研究開発センター先端電子デバイスラボラトリー
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津田 邦男
(株)東芝研究開発センター
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土門 知一
東芝ビジネス&ライフサービス
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内富 直隆
(株)東芝研究開発センター
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新田 智洋
(株)東芝研究開発センターULSI研究所
-
土門 知一
東芝ビジネス&ライフサービス
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北浦 義昭
(株)東芝セミコンダクター社ディスクリート半導体事業部
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吉村 操
(株)東芝研究開発センター
-
北浦 義昭
(株)東芝研究開発センター
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長岡 正見
(株)東芝 研究開発センター
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石田 賢二
(株)東芝 研究開発センター
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亀山 敦
(株)東芝研究開発センター
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川久 克江
(株)東芝研究開発センター
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池田 佳子
(株)東芝研究開発センター
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石田 賢二
小信号素子応用技術部
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吉村 操
(株)東芝研究開発センターULSI研究所
-
北浦 義昭
(株)東芝研究開発センターULSI研究所
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三原 正勝
(株)東芝研究開発センター
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加屋野 博幸
東芝研究開発センター
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田邊 芳一
(株)東芝研究開発センター
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鈴木 隆
東芝研究開発センター
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内富 直隆
東芝研究開発センター
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長岡 正見
(株)東芝セミコンダクター社ディスクリート半導体事業部
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川久 克江
(株)東芝 研究開発センター 先端半導体デバイス研究所
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高田 賢治
東芝研究開発センター先端電子デバイスラボラトリー
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広瀬 真由美
東芝研究開発センター先端電子デバイスラボラトリー
-
佐々木 忠寛
(株)東芝研究開発センター
-
広瀬 真由美
(株)東芝 研究開発センター
-
佐々木 忠寛
東芝研究開発センター
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田辺 芳一
東芝研究開発センター
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新田 智洋
東芝研究開発センター
-
三原 正勝
東芝研究開発センター
-
垣内 頼人
東芝研究開発センター
-
吉村 操
東芝研究開発センター
-
藤枝 一也
東芝研究開発センター
-
北浦 義昭
東芝研究開発センター
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大村 一郎
東芝 セミコンダクター社
-
津田 邦男
東芝 セミコンダクター社、研究開発センター
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広瀬 真由美
東芝研究開発センター
-
鈴木 隆
(株)東芝研究開発センター
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亀山 敦
(株)東芝 研究開発センター 先端半導体デバイス研究所 研究開発センター
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亀山 敦
東芝セミコンダクター社
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山口 正一
東芝
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藤本 英俊
(株)東芝研究開発センター材料・デバイス研究所
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池田 佳子
(株)東芝セミコンダクター社ディスクリート半導体事業部
-
池田 佳子
(株)東芝セミコンダクター社
-
吉岡 啓
(株)東芝
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野田 隆夫
(株)東芝
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齋藤 泰伸
(株)東芝
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Hirose Mayumi
Advanced Electron Devices Laboratory Corporate R&d Center Toshiba Corporation
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Takada Yoshiharu
Advanced Electron Devices Laboratory Corporate R&d Center Toshiba Corporation
著作論文
- 高耐圧GaN-HEMTの無電極ランプ照明回路への応用(化合物半導体IC及び超高速・超高周波デバイス/一般)
- 1.9GHz移動体通信用GaAsSPDTスイッチIC
- W-CDMA用Self-Aligned Gate PHEMTの高線形特性
- 高耐圧GaN-HEMTの無電極ランプ照明回路への応用(化合物半導体IC及び超高速・超高周波デバイス/一般)
- FP構造を有する高耐圧GaN-HEMTの電流コラプスとゲートチャージ
- 高耐圧GaN-HEMTの電流コラプス抑制に向けたフィールドプレート構造設計ポイント
- 導電性基板上GaN HEMTの縦方向電界による電流コラプス現象
- 高耐圧GaN-HEMTの電流コラプスと信頼性に対する電界の影響
- 高耐圧GaN-HEMTの電流コラプスと信頼性に対する電界の影響