徳田 安紀 | 三菱電機 先端技術総合研

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概要

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関連著者

• 徳田 安紀

  三菱電機 先端技術総合研

• 徳田 安紀

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 柳生 栄治

  三菱電機株式会社先端技術総合研究所

• 大石 敏之

  三菱電機株式会社

• 大石 敏之

  三菱電機(株)

• 柳生 栄治

  三菱電機

• 中路 雅晴

  三菱電機(株)高周波光デバイス製作所

• 石村 栄太郎

  三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所

• 塩沢 勝臣

  三菱電機株式会社先端技術総合研究所

• 塩沢 勝臣

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 塩沢 勝臣

  三菱電機(株)

• 青柳 利隆

  三菱電機株式会社

• 青柳 利隆

  三菱電機(株) 光・マイクロ波デバイス開発研究所

• 阿部 雄次

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 阿部 雄次

  三菱電機先端総研

• 吉新 喜市

  三菱電機先端技術総合研究所

• 吉新 喜市

  三菱電機

• 中路 雅晴

  三菱電機株式会社

• 吉新 喜市

  三菱電機 先端技総研

• 石村 栄太郎

  三菱電機(株)高周波光デバイス製作所

• 青柳 利隆

  三菱電機(株)高周波光デバイス製作所

• 柳生 栄治

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 吉新 喜市

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 古川 泰助

  三菱電機株式会社先端技術総合研究所

• 古川 泰助

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 大石 敏之

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 杉原 浩平

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 中畑 匠

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 丸野 茂光

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 丸野 茂光

  三菱電機株式会社先端総研

• 中路 雅晴

  三菱電機(株) 高周波光デバイス製作所

• 石川 高英

  三菱電機(株)高周波光デバイス製作所

• 石川 高英

  三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所

• 庵原 晋

  三菱電機(株)高周波デバイス製作所

• 佐山 弘和

  三菱電機ulsi技術開発センター

• 石川 高英

  三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所開発部

• 石川 高英

  三菱電機

• 三浦 成久

  三菱電機先端技術総合研究所

• 三浦 成久

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 徳田 安紀

  三菱電機株式会社先端技術総合研究所:光産業技術振興協会

• 石川 高英

  三菱電機(株)情報電子研究所光・電波機器開発室

• 庵原 晋

  三菱電機(株)高周波光デバイス製作所

• 南條 拓真

  三菱電機株式会社先端技術総合研究所

• 吹田 宗義

  三菱電機株式会社先端技術総合研究所

• 阿部 雄次

  三菱電機株式会社先端技術総合研究所

• 吹田 宗義

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 佐山 弘和

  ULSI技術開発センター

• 南條 拓真

  三菱電機

• 徳田 安紀

  三菱電機

• 吹田 宗義

  三菱電機

• 大石 敏之

  三菱電機

• 中路 雅晴

  三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所

• 青柳 利隆

  三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所

• 佐藤 真一

  兵庫県立大学大学院工学研究科

• 内田 哲也

  (株)ルネサステクノロジ

• 青柳 克信

  理化学研究所

• 青柳 克信

  理化学研究所・東京工業大学

• 西岡 康隆

  三菱電機(株)LSI研究所

• 今井 章文

  三菱電機株式会社先端技術総合研究所

• 佐山 弘和

  三菱電機(株)ULSI開発研究所

• 堀田 勝之

  Ulsi技術開発センター

• 見上 洋平

  三菱電機(株)高周波デバイス製作所

• 板本 裕光

  三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所

• 見上 洋平

  三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所

• 吉新 喜市

  三菱電機株式会社先端技術総合研究所

• 徳田 安紀

  三菱電機株式会社先端技術総合研究所

• 黒井 隆

  Ulsi技術開発センター

• 犬石 昌秀

  株式会社ルネサステクノロジ 先端デバイス開発部

• 犬石 昌秀

  株式会社ルネサステクノロジ

• 井上 靖朗

  (株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部

• 井上 靖朗

  (株)ルネサステクノロジ

• 伊藤 康悦

  ULSI技術開発センター

• 梅田 浩司

  ULSI技術開発センター

• 内田 哲也

  ULSI技術開発センター

• 後藤 欣哉

  ULSI技術開発センター

• 井上 靖朗

  ULSI技術開発センター

• 佐藤 真一

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 犬石 昌秀

  ULSI技術開発センター

• 武内 道一

  理化学研究所

• 西岡 康隆

  三菱電機(株)

• 柳生 栄治

  三菱電機株式会社

• 山川 聡

  三菱電機(株)

• 梅田 浩司

  (株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部

• 板本 裕光

  三菱電機株式会社

• 板本 裕光

  三菱電機株式会社 情報技術総合研究所

• 村上 隆昭

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 須賀原 和之

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 後藤 欣哉

  株式会社ルネサステクノロジ

• 村上 隆昭

  三菱電機(株)

• 須賀原 和之

  三菱電機(株)

• 安村 賢二

  三菱電機(株)

• 石村 栄太郎

  三菱電機株式会社

• 見上 洋平

  三菱電機株式会社

• 武内 道一

  理化学研究所・東京工業大学

• 今井 章文

  三菱電機

• 佐山 弘和

  三菱電機(株)

• 石村 栄太郎

  三菱電機株

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著作論文

• 高信頼ガードリングフリー・プレーナ型InAlAsアバランシェ・フォトダイオード(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,一般)
• C-3-42 ガードリングフリー型高速・低雑音AlInAsアバランシェフォトダイオード(アクティブモジュール,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
• 内壁酸化およびゲート酸化にランプ酸化法を用いたシャロートレンチ分離による逆ナローチャネル効果の抑制
• ED2000-133 / SDM2000-115 / ICD-2000-69 サブ0.1μmCMOS技術 : エレベイテッドソース・ドレイン技術を中心に
• ED2000-133 / SDM2000-115 / ICD2000-69 サブ0.1 μm CMOS技術 : エレベイテッドソース・ドレイン技術を中心に
• ED2000-133 / SDM2000-115 / ICD2000-69 サブ0.1μm CMOS技術 : エレベイテッドソース・ドレイン技術を中心に
• UHV-CVDによるエピタキシャルSiのMOSFETソース・ドレインへの適用
• シミュレーションを用いた超微細トレンチ分離開発
• Siイオン注入ドーピング技術を適用したAlGaN/AlN/GaN HEMT
• AlGaNチャネルHEMTにおけるドレイン耐圧の向上
• 高信頼ガードリングフリー・プレーナ型InAlAsアバランシェ・フォトダイオード(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,一般)
• 高信頼ガードリングフリー・プレーナ型InAlAsアバランシェ・フォトダイオード(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,一般)
• C-4-26 新型プレーナAlInAs-APDの高耐湿特性(C-4. レーザ・量子エレクトロニクス(変調器・受光器), エレクトロニクス1)

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