Nozawa Ryoichi | Base Technology Research Center Seiko Epson Corporation

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概要

• 同名の論文著者
• Base Technology Research Center Seiko Epson Corporationの論文著者

関連著者

• Nozawa Ryoichi

  Base Technology Research Center Seiko Epson Corporation

• 木村 睦

  龍谷大学電子情報学科

• 井上 聡

  セイコーエプソン株式会社フロンティアデバイス研究所

• 下田 達也

  Center For Nano Materials And Technology Japan Advanced Institute Of Science And Technology

• SHIMODA Tatsuya

  Seiko Epson Corporation

• 野澤 陵一

  セイコーエプソン株式会社OLED技術開発部

• INOUE Satoshi

  Base Technology Research Center, Seiko Epson Corp.

• Shimoda Tatsuya[

  Base Technology Research Center Seiko Epson Corporation

• 下田 達也

  Seiko Epson Corporation

• Lui BaSil

  エプソンケンブリッジ研究所

• Lui B

  Epson Cambridge Lab. Cambridge Gbr

• KIMURA Mutsumi

  Base Technology Research Center, Seiko Epson Corporation

• NOZAWA Ryoichi

  Base Technology Research Center, Seiko Epson Corporation

• LUI Basil

  Epson Cambrodge Laboratory

• TAM Simon

  Epson Cambridge Laboratory

• Kimura Mutsumi

  Ryukoku University:innovative Materials And Processing Research Center

• Migliorato Piero

  Univ. Cambridge Cambridge Gbr

• Migliorato Piero

  Department Of Engineering University Of Cambridge

• Shimoda Tatsuya

  Base Technology Research Center Seiko Epson Corporation

• Inoue S

  Seiko Epson Corporation

• Kimura Mutsumi

  Base Technology Research Center Seiko Epson Corporation

• 井上 聡

  セイコーエプソン(株)フロンティアデバイス研究所

• 下田 達也

  セイコーエプソン 基盤技術研究所

• 下田 達也

  セイコーエフ゜ソン株式会社 Tprc 第四研究ク゛ルーフ゜

• 木村 睦

  Department Of Electronics And Informatics Ryukoku University

• 木村 睦

  セイコーエプソン(株)基盤技術研究所

• TAM Simon

  Cambridge Research Laboratory of Epson

• Migliorato Piero

  ケンブリッジ大学工学部

• Tam S

  Cambridge Research Laboratory Of Epson

• SHIMODA Tatsuya

  Base Technology Research Center, Seiko Epson Corp.

• MIGLIORATO Piero

  Department of Engineering, University of Cambridge

• 木村 睦

  セイコーエプソン 基盤技研

• 木村 睦

  龍谷大学 理工学部 電子情報学科

• Lui Basil

  Epson Cambridge Laboratory, 8c King's Parade, Cambridge CB2 1SJ, United Kingdom

• 宮下 悟

  セイコーエプソン 基盤技術研究所

• KIMURA Mutsumi

  Ryukoku University

• Tam Simon

  エプソンケンブリッジ研究所

• SHIMODA Tatsuya[

  Base Technology Research Center, Seiko Epson Corporation

• 前田 浩

  セイコーエプソン(株)基盤技術研究所

• 松枝 洋二郎

  セイコーエプソン(株)基盤技術研究所

• Shimoda Tatsuya

  Seiko Epson Corp. Nagano Jpn

• 宮下 悟

  セイコーエプソン(株)nxd開発部

• 宮下 悟

  セイコーエプソン

• Kimura M

  Department Of Electrical Engineering Kure National College Of Technology

• 松枝 洋二郎

  セイコーエプソン

• Kimura Mutsumi

  Ryukoku Univ. Otsu‐shi Jpn

• Tam Simon

  Epson Cambridge Laboratory, 8c King's Parade, Cambridge CB2 1SJ, United Kingdom

• Migliorato Piero

  Department of Engineering, University of Cambridge, Trumpington Street, Cambridge CB2 1PZ, United Kingdom

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著作論文

• 多結晶シリコン薄膜トランジスタの絶縁膜-シリコン界面と結晶粒界のトラップ準位の抽出(低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集)
• Extraction of Trap State at the Oxide-Silicon Interface and Grain Biundary in Polycrystallune Silicon Thin-Film Transistors
• 低温多結晶シリコン薄膜トランジスタ駆動発光ポリマーディスプレイ
• Extraction of Trap States at the Oxide-Silicon Interface and Grain Boundary for Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors : Semiconductors
• Current Density Enhancement at Active Layer Edges in Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors : Semiconductors
• Extraction of Trap States at the Oxide-Silicon Interface and Grain Boundary in Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors

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