XFELによる極小デバイス磁化挙動解析のための回折スペックル計測技術の開発

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概要

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著者

• 鈴木 基寛

  高輝度光科学研究センター

• 中村 哲也

  高輝度光科学研究センター

• 角田 匡清

  東北大学大学院 工学研究科

• 淡路 直樹

  富士通

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