遺伝的アルゴリズムと勾配法の組合せによる物理モデルの自動合わせ込み
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概要
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本論文では,遺伝的アルゴリズムを用いた物理モデルの自動合わせ込み手法を提案する.半導体デバイスプロセスの設計時にはTCAD(テクノロジCAD)が現在駆使されている.TCADによるシミュレーション結果が正確であるためには,計算に用いられる物理モデルのパラメータを,あらかじめ計測した実験データと一致するように調整しておく必要がある.この工程は合わせ込みと呼ばれ,特に精度を要求されるシミュレーションでは,モデルパラメータの数が多くなり,合わせ込みに要する工数が増大する.また,TCADで用いられる物理モデルにおいては,調整されたパラメータに微分可能性確保の制約条件があるために,これまで合わせ込みの自動化ができなかった.そこで提案手法では,遺伝的アルゴリズムと勾配法を組み合わせ,制約条件を満たしつつ,すべてのモデルパラメータを一括して自動的に合わせ込む.提案手法をイオン打ち込みモデルにおける不純物分布関数のパラメータ群(144個)の合わせ込みに適用した結果,1台のPCを用いて17分,8台のPCを用いて2分強での自動合わせ込みに成功した.この合わせ込み工程は従来熟練者でも数日程度要したことから,大幅に作業効率,作業コストを改善できる.
- 一般社団法人情報処理学会の論文
- 2006-10-15
著者
-
樋口 哲也
産業技術総合研究所
-
西 謙二
近畿大学工業高等専門学校
-
西 謙二
株式会社半導体先端テクノロジーズ, 基盤技術研究部
-
樋口 哲也
独立行政法人産業技術総合研究所
-
西 謙二
(株)半導体先端テクノロジーズ第二研究部
-
西 謙二
近畿大学高等専門学校総合システム工学科電気電子系:(現)筑波大学大学院
-
西 謙二
株式会社半導体先端テクノロジーズ(selete):(現)近畿大学工業高等専門学校
-
相川 正宏
独立行政法人産業技術総合研究所半導体MIRAIプロジェクト
-
小田 嘉則
株式会社半導体先端テクノロジーズ(selete)
-
村川 正宏
独立行政法人産業技術総合研究所半導体miraiプロジェクト
-
樋口 哲也
独立行政法人産業技術総合研究所半導体miraiプロジェクト
-
小田 嘉則
株式会社半導体先端テクノロジーズ(selete):(現)松下電器産業株式会社
-
樋口 哲也
産業技術総合研究所 情報技術研究部門
-
樋口 哲也
産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター
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