半導体デバイスの超拡散技術による新しいプロセス
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概要
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電子線照射による非平衡状態の電子ビームドーピングプロセスで、ダイオードが生成された。全プロセス過程は主として次の三つの段階からなる。即ち、(1) 電子線照射によるはじき出し原子、(2) 原子の表面拡散、および(3) 不純物原子のキック・アウト機構である。不純物原子の添加はキック・アウト機構により説明することができる。それは、インタースティシャルシィ拡散と直接的な格子間拡散よりなる。
- 名古屋産業大学の論文
- 2004-03-18
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