Relationship between Water Diffusivity of Dielectric Films and Accelerated Hot Carrier Degradation Caused by Water
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1995-02-28
著者
-
Fukuda K
Electrotechnical Lab. Ibaraki Jpn
-
Nakano T
National Inst. Advanced Interdisciplinary Res. Ibaraki Jpn
-
Fukuda Kuniya
Department Of Engineering Physics Faculty Of Engineering Kyoto University
-
NAKANO Tadashi
LSI Research Center, Technical Research Division, Kawasaki Steel Corp.
-
Fukuda Kenji
LSI Research Center, Kawasaki Steel Corporation
-
Fujishima Masaaki
LSI Research Center, Kawasaki Steel Corporation
-
Mura Naomi
LSI Research Center, Kawasaki Steel Corporation
-
Tokunaga Kyoji
LSI Research Center, Kawasaki Steel Corporation
-
Tsuzumitani Akihiko
LSI Research Center, Kawasaki Steel Corporation
-
Ichinose Shuji
Technology Development Center, Kawasaki Steel Corporation
-
Mura Naomi
Lsi Division Kawasaki Steel Corporation
-
Fujishima M
Vlsi Design And Education Center The University Of Tokyo
-
Nakano Tadashi
Lsi Research Center Technical Research Division Kawasaki Steel Corporation
-
Ichinose Shuji
Technology Development Center Kawasaki Steel Corporation
-
Tokunaga K
Nec Corp. Kanagawa Jpn
-
Tsuzumitani Akihiko
Ulsi Process Technology Development Center Semiconductor Company Matsushita Electronics Corporation
-
Tsuzumitani Akihiko
Lsi Division Kawasaki Steel Corporation
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