Control of Crystalline Structure and Electrical Properties of TaSiN Thin Film Formed by Reactive RF-Sputtering
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 2000-03-15
著者
-
Nemoto Satoru
Texas Instruments Tsukuba Research And Development Center Limited
-
Aoki K
Texas Instruments Japan Ltd. Ibaraki Jpn
-
Fukuda Yukio
Texas Instruments Tukuba Research & Development Center Limited
-
Fukuda Y
Ntt Optoelectronics Laboratories
-
Fukuda Yukio
Tsukuba Research And Development Center Texas Instruments Japan Limited
-
OIZUMI Munenori
Texas Instruments Tsukuba Research and Development Center, Limited
-
AOKI Katsuhiro
Texas Instruments Tsukuba Research and Development Center, Limited
-
HASHIMOTO Satoshi
Texas Instruments Tsukuba Research and Development Center, Limited
-
Aoki K
Toshiba Corp. Yokohama Jpn
-
Aoki Katsuhiro
Texas Instruments Tsukuba Research & Development Center Limited
-
Fukuda Yuji
Kansai Photon Science Institute Japan Atomic Energy Agency
-
Fukuda Yukio
Texas Instruments Tsukuba Research & Development Center Limited
-
Fukuda Yuji
JAEA
-
Oizumi Munenori
Tsukuba Research And Development Center Texas Instruments Japan Limited
-
Hashimoto Satoshi
Texas Instruments Tsukuba Research And Development Center Limited
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