Ultrahigh-Vacuum Electron Cyclotron Resonance-Plasma Chemical-Vapor-Deposited SiN_x Films for X-Ray Lithography Mask Membrane : As-Deposited Properties and Radiation Stability
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1994-12-30
著者
-
YAMASHITA Yoshio
SORTEC Corporation
-
Ahn Jinho
Microelectronics Research Laboratories Nec Corporation
-
Tsuboi S
Assoc. Super‐advanced Electronics Technol. (aset) Kanagawa Jpn
-
Suzuki K
Ntt Transmission Systems Lab. Ibaraki Jpn
-
Suzuki Kenji
Institute For Materials Research Laboratory Tohoku University
-
Yamashita Yohachi
Corporate R&d Center Toshiba Corporation
-
Yamashita Yohachi
Toshiba Materials & Devices Research Laboratories
-
Yamaguchi Yoh-ichi
Hoya Corporation
-
TSUBOI Shinji
SORTEC Corporation
-
SUZUKI Katsumi
Microelectronics Research Laboratories, NEC Corporation
-
Yamashita Yoshio
Sortec Corporation:(present Address) Oki Electric Industry Co. Ltd.
-
Shoki T
Hoya Corp. Tokyo Jpn
-
Shoki Tsutomu
Hoya Corporation Ngl Development Center
-
Suzuki K
横浜国大 大学院工学研究院
-
Yamashita Y
Central Research Laboratory Hamamatsu Photonics K.k.
-
鈴木 和夫
横浜大
-
Suzuki Katsurmi
Tamachi Laboratory Superconductivity Research Laboratory Istec
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