High-Quality, High-Rate SiO_2 and SiN Films Formed by 400 kHz Bias Electron Cyclotron Resonance-Chemical Vapor Deposition
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1995-07-15
著者
-
Saito K
Department Of Materials Technology Chiba University
-
Suzuki K
Ntt Transmission Systems Lab. Ibaraki Jpn
-
Suzuki Kenji
Institute For Materials Research Laboratory Tohoku University
-
FUKUDA Takuya
Semiconducter Development Center, Hitachi Ltd.
-
SAITO Katsuaki
Hitachi Research Laboratory, Hitachi Ltd.
-
OHUE Michio
Hitachi Research Laboratory, Hitachi Ltd.
-
SHIMA Kenzou
Hitachi Works, Hitachi Ltd.
-
MOMMA Naohiro
Hitachi Research Laboratory, Hitachi Ltd.
-
Ohue Michio
Hitachi Research Laboratory Hitachi Ltd.
-
Shima Kenzou
Hitachi Works Hitachi Ltd.
-
Momma Naohiro
Hitachi Research Laboratory Hitachi Ltd.
-
Suzuki K
横浜国大 大学院工学研究院
-
鈴木 和夫
横浜大
-
Suzuki Katsurmi
Tamachi Laboratory Superconductivity Research Laboratory Istec
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