Estimation of Electric Fields from Magnetic Field Distributions and an Application to Helicon Wave
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人応用物理学会の論文
- 1995-11-15
著者
-
KAWAI Yoshinobu
Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu University
-
Kawai Yoshinobu
Interdisciplinary Graduate School Of Engineering Sciences Kyushu University
-
Kawai Yoshinobu
Interdiciplinary Gradate School Of Engineering Sciences Kyushu University
-
SHINOHARA Shunjiro
Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu University
-
Shinohara Shunjiro
Interdisciplinary Graduate School Of Engineering Science Kyushu University
関連論文
- 25pRE-4 直線プラズマにおけるメゾスケール構造の観測(プラズマ基礎(乱流・基礎プラズマ),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
- 22aRS-3 直線プラズマにおけるドリフト波乱流 : 時空間構造の観測(プラズマ基礎,領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核談合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
- 22aRS-5 直線プラズマにおけるドリフト波乱流 : 実験と理論の比較(プラズマ基礎,領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核談合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
- 25aQB-8 ECRプラズマにおける波動の構造と非線形相互作用の測定(II)(25aQB プラズマ基礎(非線形現象・乱流),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 25pRE-6 直線ECRプラズマにおけるドリフト不安定性とフルート不安定性の競合的振る舞い・II(プラズマ基礎(乱流・基礎プラズマ),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
- 22aRS-2 直線ECRプラズマにおけるドリフト不安定性とフルート不安定性の競合的振る舞い(プラズマ基礎,領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核談合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
- 19aQC-5 直線ECRプラズマにおける衝突ドリフト波不安定性とフルート波不安定性の共存現象(プラズマ基礎(非線形現象(自己組織化,カオス,乱流等)),領域2,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- Measurement of Edge Density Profiles and Fluctuations in the H-Mode Discharge of the Compact Helical System (CHS) with a Thermal Neutral Lithium Beam Probe
- 27aC26P 負イオンプラズマ中のイオン音波slowモードの支配的伝播(プラズマ基礎・応用)
- 27pA03P 3成分イオンプラズマ中のイオン音波伝播特性(プラズマ基礎・応用)
- 27pSP-9 直線円筒形ECRプラズマにおけるゾーナルフロー型振動の観測(27pSP プラズマ基礎(波動・加熱・不安定性・輸送・閉じ込め特性・非線形現象・プラズマ応用),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 25pRE-3 直線プラズマにおける二時刻二点相関法による乱流の二次元構造(プラズマ基礎(乱流・基礎プラズマ),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
- 19aQC-1 高密度直線プラズマ中のドリフト波乱流実験V : 新装置実験の概要(プラズマ基礎(非線形現象(自己組織化,カオス,乱流等)),領域2,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 19aQC-2 高密度直線プラズマ中のドリフト波乱流実験VI : 可動式マルチ電極プローブ測定(プラズマ基礎(非線形現象(自己組織化,カオス,乱流等)),領域2,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 19aQC-3 高密度直線プラズマ中のドリフト波乱流実験VII : 一体型マルチ電極プローブ測定(プラズマ基礎(非線形現象(自己組織化,カオス,乱流等)),領域2,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 19aQC-4 高密度直線プラズマ中のドリフト波乱流実験VIII : 揺動の非線形解析(プラズマ基礎(非線形現象(自己組織化,カオス,乱流等)),領域2,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 25aQB-7 直線ECRプラズマ中のドリフト波励起実験III(25aQB プラズマ基礎(非線形現象・乱流),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 25aQB-9 高密度直線プラズマ中のドリフト波乱流実験IV : 新装置実験(25aQB プラズマ基礎(非線形現象・乱流),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 28aUC-3 高密度直線プラズマ中のドリフト波乱流実験II : プラズマ流と中性粒子(28aUC プラズマ基礎(非線形現象・乱流),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 28aUC-4 高密度直線プラズマ中のドリフト波乱流実験III : 静電搖動(28aUC プラズマ基礎(非線形現象・乱流),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 28aUC-5 直線ECRプラズマ中のドリフト波励起実験II(28aUC プラズマ基礎(非線形現象・乱流),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- Reconstruction of Edge-Plasma Density Profiles by Neutral Beam Probe Spectroscopy
- 28p-C-2 ECRプラズマ中のイオンおよび中性原子温度の測定
- 24aD-7 Ar/SF_6プラズマ中のイオン音波伝播
- 25aYG-11 イオンバーストを用いた多種イオンプラズマ測定
- Behavior of Time-Resolved Ion Energy Distribution Functions during Ion-Ion Instability
- 12p-M-7 斜め入射のイオンビームによるイオン-イオン不安定性の励起とその外場による抑制
- Suppression of Ion-Ion Instabilities Excited by an Obliquely Injected Ion Beam
- 27pA04P 2種類の負イオンを含む多成分系プラズマ中のイオン音波(プラズマ基礎・応用)
- Production of a Large-Diameter Uniform ECR Plasma with a Lisitano Coil : Nuclear Science, Plasmas and Electric Discharges
- Impurity Ions in a Plasma Produced by Electron Cyclotron Resonance Heating : Nuclear Science, Plasmas and Electric Discharges
- Flute Stabilization of a Mirror-Confined Plasma by a Positive Ambipolar Potential
- Electron Cyclotron Wave Plasma Production Using a Concave Lens
- 28a-Q-12 マイクロ波凹レンズを用いた大口径高密度プラズマの生成
- 29a-YB-11 マルチプレートランチャーによる大口径・高密度プラズマの生成
- 12a-M-7 ヘリコン波によって生成されたプラズマ中の電子ビームIII
- Effect of Electromagnetic Waves Propagating in the Periphery of Electron Cyclotron Resonance Plasma on the Uniformity
- Three-Dimensional Simulation of Microwave Propagation in an Electron Cyclotron Resonance Plasma
- One-Dimensional Simulation of Microwave Propagation in Electron Cyclotron Resonance Plasmas
- Characteristics of Very High Frequency Plasma Produced with Ladder-Shaped Electrode at High Pressure
- Characteristics of Very-High-Frequency-Excited SiH_4 Plasmas using a Ladder-Shaped Electrode
- Characteristics of Very High Frequency Plasma Produced Using a Ladder-Shaped Electrode
- Production of Inductively Coupled RF Plasma Using a Ladder-Shaped Antenne
- 7a-YN-9 バイポーラ型反射電極を用いたイオン音波ソリトン及びバーストの反射
- 29a-YG-10 イオン波の分散特性に対する負イオンの効果
- 負イオンプラズマ中のイオン波の励起特性
- 負イオンプラズマ中のイオン波の分散関係
- 27a-Q-12 負イオンプラズマ中のイオン波の分散関係
- Dynamic Formation of Excited Helicon Wave Structure and Estimation of Wave Energy Flux Distribution
- Dynamic Behavior of Helicon Wave Produced Plasma
- Suppression of Ion-Ion Instabilities by an External Field
- Effect of Native Oxide upon Formation of Amorphous SiO_x Layer at the Interface of Directly Bonded Silicon Wafers
- 28a-Q-13 ECWプラズマ中の高速電子群発生とミラー磁場配位の関係
- 3p-W-3 電子サイクロトロン波プラズマにおける密度転移の伝播
- 30p-YB-14 電子サイクロトロン波プラズマ中の電子のカオス的加速
- 30p-YB-11 電子サイクロトロン波プラズマにおける密度転移現象III
- 12p-M-2 L-波のトンネル効果と電子サイクロトロン波の励起
- 12p-M-1 電子サイクロトロン波プラズマにおける密度転移現象II
- 30a-ZE-11 対向入射マイクロ波による高密度ECWプラズマの生成(プラズマ物理・核融合(プラズマ基礎))
- 28p-Q-3 電子サイクロトロン波プラズマにおける渦構造の発生
- 28p-Q-2 電子サイクロトン波プラズマにおける密度転移現象とプラズマの流れ場
- Patterning Yield of Sub-100-nm Holes Limited by Fluctuation of Exposure and Development Reactions in Synchrotron Radiation Lithography Using Biased Mask Patterns
- Lithographic Performance of a Chemically Amplified Resist Developed for Synchrotron Radiation Lithography in the Sub-100-nm Region
- Dissolution Characteristics and Surface Morphology of Chemically Amplified Resists in X-Ray Lithography
- 28a-Q-11 負イオンを含む多成分プラズマのイオンシース中の現象
- Observations of Subharmonic Waves in an Electron Beam Plasma System
- Electron Heating and Control of RF-Produced Plasma Parameters Excited by a Planar, Spiral Antenna
- Effects of Axial Magnetic Field and Faraday Shield on Characteristics of RF Produced Plasma Using Spiral Antenna
- Waveform of Linear Ion-Acoustic Waves Excited by a Mesh Grid
- Reflection of Ion Waves from a Bipolar Electrode in an Ion Beam-Plasma System
- New Microwave Launcher for Producing ECR Plasmas without Window Contamination I. : Excitation of Electron Cyclotron Wave
- Chaotic Behavior of Current-Carrying Plasmas in External Periodic Oscillations
- Observation of Local Structures in Asymmetric Ion Sheath
- Stress-Enhanced Diffusion of Boron at the Interface of a Directly Bonded Silicon Wafer
- ECR Plasma CVD Using a Slotted Lisitano Coil
- Comments on the Reflection/Excitation Properties of a Bipolar Potential Structure Used in Ion Wave Experiments : Nuclear Sciences, Plasmas, and Electric Discharges
- Measurement of Ion Species Utilizing Ion-Bursts in an Ar/SF_6 Mixture Plasma
- Estimation of Electric Fields from Magnetic Field Distributions and an Application to Helicon Wave
- Skin Depth of Electromagnetic Waves in Plasma with Magnetic Field and Collisions
- Stochastic Electron Acceleration by an Electron Cyclotron Wave Propagating in an Inhomogeneous Magnetic Field
- Nonlinear Energy Transfer of Drift-Wave Fluctuation in a Cylindrical Laboratory Plasma
- Nonlinear Saturation Mechanism of Ion-Ion Instability Due to Particle Trapping Effect
- Estimate of the Negative-Ion Density in O_2/Ar ECR Plasma Utilizing Ion Acoustic Waves : Fluids, Plasmas, and Electric Discharges
- Phantom Exposure of Chemically Amplified Resist in KrF Excimer Laser Lithography
- 30p-YQ-13 バイポーラ型反射電極を用いたイオン音波ソリトン及びバーストの反射 II
- Advances in Patterning Characteristics of Chemically Amplified Resists with an Organic Base
- Multiplate Microwave Launcher for Producing High-Density Electron Cyclotron Resonance Plasmas
- Propagation Characteristics of Ion Acoustic Waves in an Ar/SF_6 Plasma
- Production Mechanism of a Large-Diameter Uniform Electron Cyclotron Resonance Plasma Generated by a Circular TE_ Mode Microwave
- 8" Uniform Electron Cyclotron Resonance Plasma Source Using a Circular TE_ Mode Microwave
- Excitation Characteristics of Ion Waves in a Negative Ion Plasma
- 12p-L-5 CHSのHモード的放電における周辺プラズマ
- New Resist Technologies for 0.25-μm Wiring Pattern Fabrication with KrF Lithography
- Spatial Frequency Doubling Method by Image Superimposition for Sub-0.15-μm Optical Lithography
- 27p-Q-9 電子ビーム・プラズマ系における分岐現象
- Spatial Frequency Doubling Method for Sub-0.15-μm Optical Lithography
- Effect of Overcoats in Chemically Amplified Resists against Water and Organic Bases
- Parameters Measurement of ECR Silane Plasma
- Production of Low-Electron-Temperature Electron Cyclotron Resonance Plasma Using Nitrogen Gas in the Mirror Magnetic Field
- Observation of Synchronization of Two Chaotic Oscillators in Plasma