Ultra-Dry Oxidation for Improving the Time-Dependent Dielectric Breakdown Lifetime of Ultra-Thin Silicon Oxide Films
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1992-06-15
著者
-
Tabe Michiharu
Ntt Lsi Laboratories:(present Address)research Institute Of Electronics Shizuoka University
-
Tabe Michiharu
Ntt Lsi Laboratories
-
YAMADA Hiroshi
NTT LSI Laboratories
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