Demonstration of X-Ray Amplification in an X-Ray Laser Cavity Pumped by a Pulse-Train Yttrium Aluminium Garnet Laser
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人応用物理学会の論文
- 1999-09-15
著者
-
山口 直洋
Toyota Technological Institute
-
YAMAGUCHI Naohiro
Toyota Technological Institute
-
FUJIKAWA Chiemi
Toyota Technological Institute
-
OHCHI Tadayuki
Toyota Technological Institute
-
HARA Tamio
Toyota Technological Institute
-
Sata Toshio
Toyota Technological Institute
-
Hara T
Toyota Technological Inst. Nagoya Jpn
-
Hara Tamio
Toyota Technological Inst. Nagoya Jpn
-
Chiemi Fujikawa
Toyota Technological Institute
-
Yamaguchi N
Toyota Technological Institue
-
Yamaguchi Naohiro
Plasma Research Center Unversity O Tsukuba
-
Yamaguchi Naohiro
Toyota Technological Institue
-
山口 直洋
Toyota Technological Inst. Nagoya Jpn
関連論文
- 25pB42P ダブルターゲットを用いた軟X線レーザー実験における空間分解分光(プラズマ計測, (社) プラズマ・核融合学会第21回年会)
- 29aB13 X線レーザー励起用再結合Alプラズマの空間分解分光計測(プラズマ計画)
- 半導体X線計測器の感度理論の構築と拡張,ならびにX線検出器製作への応用とプラズマ電子温度計測への適用
- 26p-E-7 ガンマ10のX線計測 V : セントラルセル部の電子温度計測
- 26p-E-6 ガンマ10のX線計測 IV : マイクロチャンネルプレートのX線検出特性と電子温度計測
- 31a-TH-7 ガンマ10のX線計測III : シリコン表面障壁型検出器の特性と電子温度計測への適用
- 3a KF-5 レーザープラズマからのXUV輻射
- 31a-TH-6 ガンマ10のX線計測II : サーマルバリアの熱遮断効果の計測
- 31a-TH-5 ガンマ10のX線計測I : ECHによるプラグ部プラト一型電子分布函数生成の計測
- Dotted-Array Plasma Production by Using a Line-Focusing Lens System with Segmented Prism Array for Compact X-ray Laser Experiments
- Demonstration of X-Ray Amplification in an X-Ray Laser Cavity Pumped by a Pulse-Train Yttrium Aluminium Garnet Laser
- Debris from High-Aspect-Ratio Rectangular Focused Laser Irradiation on a Tape Target Surface in an X-Ray Laser System
- Observation of Gain and Double-pass Amplification of Li-like Al Soft X-ray Transitions in a Recombining Plasma Pumped by a Pulse-train YAG Laser
- 3a-H-6 ガンマ10における水素及び不純物分光
- 28a-Y1-12 ガンマ10におけるX線トモグラフィー計測 II
- 29p-L-1 ガンマ10X線トモグラフィー計測I : フォトンファクトリーに於けるMCP較正
- 昭和 60 年度プラズマ研究所共同研究会「真空紫外・軟 X 線領域での測光機器較正法の研究」プログラム
- レ-ザ-生成プラズマのシュタルクシフト計測 (「高密度プラズマの物理と計測」研究会報告) -- (原子過程,デ-タ処理)
- 2a-SB-11 レーザープラズマ中高密度多価イオンのXUV光吸収
- 2a-SB-10 レーザー生成プラズマの分光 : シュタルクシフト
- 2p-Y-2 レーザープラズマのXUV分光
- Development of Photoelectron Microscope with Compact X-Ray Source Generated by Line-Focused Laser Irradiation
- テープターゲットを用いたレーザープラズマEUV光源による光電子分光装置の開発
- 25pB02 線集光型レーザープラズマX線源による光電子顕微鏡の開発(プラズマ応用, (社) プラズマ・核融合学会第21回年会)
- 922 ポーラスシリコン薄膜の機械的特性の評価
- 19pTC-2 パルス列レーザー励起小型X線レーザーにおける空間コヒーレンス測定
- 120 薄膜振動子のレーザー光照射による加振時の振動モード解析(振動の解析・制御)
- 27aYN-3 ガンマ10プラズマの不純物イオンスペクトル計測
- 27aA-8 パルス列レーザーを用いた小型X線レーザーの開発 : ダブルターゲット実験
- 31a-ZD-12 再結合Al X線レーザー利得における励起レーザーパルス波形の影響(3)
- 31a-ZD-11 小型X線レーザー励起のための微小点列照射法
- 第6回X線レーザー国際会議
- 豊田工業大学大学院工学研究科X線レーザー・プラズマ工学研究室
- パルス列レーザー励起軟X線レーザーにおける励起レーザーエネルギーのZスケーリング
- 小型軟X線レーザーを用いたサブミクロンビームの形成
- 28a-YQ-6 小型軟X線レーザーを用いたsub-μmビームの形成
- 28a-YQ-5 パルス列レーザー励起軟X線レーザーにおける励起レーザーエネルギーのZスケーリング
- 28a-YQ-4 再結合AlX線レーザー利得における励起レーザーパルス波形の影響(2)
- 30a-YL-3 不安定共振器からのX線レーザービームの特性
- 5a-Q-3 再結合Al軟X線レーザーにおけるLi様イオンの励起準位占有密度の測定
- 5a-Q-2 再結合AlX線レーザー利得のおける励起レーザーパルス波形の影響
- 5a-Q-1 パルス列YAGレーザーを用いた小型軟X線レーザーの研究VIII : Mg X 3d-5f線の利得の観測
- 31P-YA-11 パルス列YAGレーザーを用いた小型X線レーザーの研究VII : AI XI 3d-5f線の往復増幅実験
- 31p-YA-10 パルス列YAGレーザーを用いた小型軟X線レーザーの研究VI : AI XI 3d-5f線の利得の空間分布
- 31p-YA-9 パルス列YAGレーザーを用いた小型X線レーザーの研究V : 不安定共振器実験とそのモデル計算
- 29p-YK-1 YAGレーザーを用いたテーブルトップX線レーザー
- 線集光X線光源からのデブリの分布の観察
- パルス列YAGレーザーを用いた小型軟X線レーザーの研究IV : ビームスプリッター共振器
- パルス列YAGレーザーを用いた小型X線レーザーの研究III : 不安定共振器
- パルス列YAGレーザーを用いた小型軟X線レーザーの研究II : 利得と往復増幅
- 31a-S-5 パルス列YAG レーザーを用いた小型X線レーザーの研究 I
- 30a-YB-6 パルス列YAGレーザー励起小型X線レーザーの研究
- Reflow of PSG Layers by Halogen Lamp Short Duration Heating Technique
- Contact Resistance of Al/Si Ohmic Electrodes Formed by Rapid Lamp Sintering.
- Space-Resolving Flat-Field Grazing-Incidence Spectrograph for Large Plasma Diagnostics
- Measurements of Spatial Coherence of Recombination X-Ray Laser
- Calculation of Diamagnetic Current in a Quadrupole Minimum B Mirror Field
- 27p-N-4 ガンマ10におけるガス・プラズマ相互作用 : Wall Recyclingの評価
- 28a-Y1-13 飛行時間中性粒子エネルギー分析器を利用した粒子及び輻射の分離測定
- 40 nm Width Structure of GaAs Fabricated by Fine Focused Ion Beam Lithography and Chlorine Reactive Ion Etching : Techniques, Instrumentations and Measurement
- A Pinhole Camera with Microehannel Plates for Hot Electron Spatial Distribution Measurement
- 3a-H-5 Hαレーザー蛍光法によるガンマ10セントラルセル水素原子密度の計測
- Calibration of Time- and Space-Resolving Vacuum Ultraviolet Spectrograph for Plasma Diagnostics in the Tandem Mirror GAMMA 10
- Study of Gas Recycling in the GAMMA 10 Tandem Mirror Based on Numerical Model Calculations
- 4p-NY-13 高密度多価イオン線のシフト
- 30p-W-13 レーザープラズマのXUV分光 : 軽元素多価イオンのサテライト線
- 30p-C-9 レーザープラズマ中のXUV輻射輸送とアブレーション。 : I.実験
- Induced Defects in GaAs Etched by Low Energy Ions in Electron Beam excited Plasma(EBEP) System : Etching and Deposition Technology
- 高密度多価イオンのXUV光吸収 (レ-ザ-による爆縮過程と高密度プラズマの原子過程・輻射輸送(研究会報告)) -- (高密度プラズマ生成・爆縮)
- 10p-L-11 レーザープラズマのX線分光
- New Etching System with a Large Diameter Using Electron Beam Excited Plasma
- Comparative Studies between Ag-Sheathed YBa_2Cu_3O_y Wires and Sintered YBa_2Cu_3O_y
- Absolute Calibration of Space- and TIme-Resolving Flat-Field Vacuum Ultraviolet Spectrograph for Plasma Diagnostics
- Metal Mold Manufacturing of Fresnel Lens by Use of Micro Grooving Technology
- Enhancement of the 15.4 nm Line of the Lithiumlike Aluminum Recombining Plasma Laser using a Half Cavity
- Enhancement of Soft X-Ray Emission from Al Plasma by Pulse Train Laser Irradiation
- Observation of Soft X-Ray Amplified Spontaneous Emission in a Recombining Si Plasma Pumped by a Low-Power Laser
- Layer-By-Layer Controlled Digital Etching by Means of an Electron-Beam-Excited Plasma System : Etching and Deposition Technology
- Layer-By-Layer Controlled Digital Etching by Means of an Electron-Beam-Excited Plasma System
- Soft X-Ray Lasing in an Al Plasma Produced by a 6 J Laser
- New High Current Low Energy Ion Source
- Effect of Multipulse Waveform on Gains of Soft X-Ray Lines of Lithium-Like Aluminum Ions in Recombining Plasmas
- Debris from the Target of an X-Ray Laser System and the Effect on Cavity Mirrors
- Contactless Measurement of Young's Modulus Using Laser Beam Excitation and Detection of Vibration of Thin-Film Microresonators
- Self-Aligned Formation of Porous Silicon Membranes Using Si Diaphragm Structures : Instrumentation, Measurement, and Fabrication Technology
- Carbon Ion Implantation in GaAs
- Thermal Stability in Al/Ti/GaAs Schottky Barrier
- A Transverse Electron Beam Source for the Excitation of CW Lasers
- Growth Rate and Crystallinity of Nanocrystalline Silicon Film Grown by Electron Beam Excited Plasma Chemical Vapor Deposition
- Development of Ultraprecision Micro Grooving : Manufacture of V-Shaped Groove
- High Degree of Dissociation of Nitrogen Molecules in Large-Volume Electron-Beam-Excited Plasma
- Characterization of Y-Ba-Cu-O Thin Films on Metallic Substrates Using Co-Evaporation Technique
- Application of a Ferroelectric Liquid-Crystal Cell to an Electric Field Sensor
- Development of neutral beam source using electron beam excited plasma
- Variable Nonlinear Transfer Characteristics of MSLM
- Contactless Measurement of Young’s Modulus Using Laser Beam Excitation and Detection of Vibration of Thin-Film Microresonators
- Compound-Layer-Free Nitriding of Ferrous Metals Using Electron-Beam-Excited Nitrogen Plasma
- Debris from the Target of an X-Ray Laser System and the Effect on Cavity Mirrors
- Measurements of Spatial Coherence of Recombination X-Ray Laser
- Improvement of Compact Electron-Beam-Excited Plasma Source for Increased Producible Plasma Density