5. 誘導結合型プラズマ(ICP)によるエッチング (<小特集>ドライエッチング用プラズマ)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Inductively coupled plasmas (ICPs) have many advantages such as large area, high density, and unmagnetized plasmas produced at low pressures by rf discharges. Applications of ICPs to dry etching processes are presented. First, the physical and chemical properties of ICPs are discussed in comparison to conventional rf diode plasmas. Second, a few difficulties in high-density plasma etching are pointed out; low etch selectivities, anomalous etch profiles, charge-up damages and poor reproducibility. Finally, a recent progress in solving these problems is described on radical control by wall heating and pulsed discharges.
- 社団法人プラズマ・核融合学会の論文
- 1995-08-25
著者
-
菅井 秀郎
中部大学工学部
-
菅井 秀郎
名古屋大学工学部
-
Sugai Hideo
Department Of Electrical Engineering School Of Engineering Nagoya Univeristy
-
菅井 秀郎
名古屋大学大学院
関連論文
- 反応性プロセシングプラズマにおける電子密度測定用平板型マイクロ波共振器プローブとシース効果 (特集 日本のプラズマ研究最前線)
- 8.大面積プラズマCVDプロセスの開発最前線(次世代シリコン太陽電池製造のためのプラズマ技術)
- 3a-T-1 ヘリオトロンEにおけるNBIプラズマの特性
- 29a-YA-1 ヘリオトロンEにおけるNBIプラズマの特性
- 13a-L-1 ヘリオトロンEにおけるhigh β N B I プラズマの特性
- 周波数シフトプローブを用いたプラズマ計測
- マイクロ波励起高密度プラズマを用いたPTFEフィルムの表面改質
- 周波数シフトプローブにおける膜堆積の影響
- 周波数シフトプローブの電子温度計測への応用
- 周波数シフトプローブを用いた電子密度測定におけるプローブ形状の影響
- デュアル表面波プローブを用いた電子密度・電子温度の計測
- プラズマイオン注入における平板ターゲットの二次電子放出率の計測
- 29pA10P プラズマからの真空紫外光とプラズマイオン注入における二次電子放出係数(プラズマ基礎・応用)
- 半導体検出器を用いたプラズマイオン注入における二次電子計測
- 27aA04 プラズマ吸収プローブを用いた有磁場プラズマの密度測定(プラズマ基礎・応用)
- 高周波バイアスを用いた高密度プラズマエッチャー内壁における膜堆積抑制
- イオン衝撃による酸化膜エッチャーの壁制御
- 26aB6 新しい高周波バイアス法による壁制御とエッチングへの応用(ヘリカル/プラズマ応用)
- 表面波励起エッチャーにおけるプラズマ診断とラジカル組成
- アンテナの容量終端による誘導プラズマの高密度化
- 3. 誘導結合プラズマ : プロセス用の新しい高密度プラズマの生成と診断 III
- 13p-DG-6 誘導RF放電による非磁化プラズマ生成
- 23aB35P リチウムコンディショニングによるグラファイトの水素リテンション抑制効果の基礎実験(真空・第一壁・材料, (社) プラズマ・核融合学会第21回年会)
- ビッグプロジェクト その成功と失敗の研究, 飯吉厚夫・村岡克紀著, 新潮社, 2008年, 254ページ, ISBN978-4-10-610263-9 C0221
- 3. マイクロ波プラズマ生成における凹凸界面の効果(プラズマと電磁波の相互作用の新規応用 : 空間的・時間的デザインが拓く新機能)
- ジャイアントプラズマプロセス : 低圧から大気圧プロセスまで
- TK06 新しいプラズマ基礎技術の開発研究(プラズマ応用における最近の進展, (社) プラズマ・核融合学会第21回年会)
- 2 プラズマ材料プロセスにおける壁の影響と制御(シンポジウムXI : 低温プラズマと壁)
- シンポジウム : 中部地区若手・中堅研究者の挑戦
- 29pA17P シリコン酸化用表面波プラズマの特性と酸素ラジカル制御(プラズマ基礎・応用)
- 29pA16 マイクロ波スロット励起プラズマの高効率化・高圧力化(プラズマ基礎・応用)
- プラズマ吸収プローブによるプロセスプラズマの電子密度測定
- 誘導結合SiH_4放電によるシリコン薄膜の低温結晶化
- 29pA32P 表面波プラズマを用いたDLC膜の低温形成とその電界電子放出特性(プラズマ壁相互作用・材料/電源・マグネット)
- 6. 表面波プラズマ : プロセス用の新しい高密度プラズマの生成と診断 VI
- 25aB04 リチウムコーティングによるグラファイトの水素リテンション抑制の検討(真空・第一壁・材料)
- 28aB04 グラファイト損耗のリチウムによる抑制機構(プラズマ壁相互作用・材料)
- 誘導結合型シランプラズマを用いた水素化アモルファスシリコン膜の生成
- 紫外透過分光法によるSiH_4プラズマのモニタリング
- 反応性プロセシングプラズマにおける電子密度測定用平板型マイクロ波共振器プローブとシース効果
- RFバイアス光プローブ法を用いた電子エネルギー分布関数の測定
- 30a-YS-13 ECHプラズマを用いた第一壁その場コーティング
- ECRボロナイゼーションの基礎実験
- ECRプラズマを用いた核融合炉壁コンディショニングの基礎実験
- Hamiltonian密度による音の放射圧と音響流の解析
- フォノンと流体力学による音響流解析の比較
- 27p-L-13 ECRFにおける正常モード入射とアッパー・ハイブリッド加熱
- 30p-SB-21 二種イオンプラズマ中のドリフト波
- 26pA18p グラファイトのリチウムコンディショニングにおける水素リテンションの影響(プラズマ基礎/壁相互作用)
- 1p-J-4 二種イオンプラズマ中の静電イオンサイクロトロン波の実験
- 1p-J-3 イオンサイクロトロンドリフト波の不安定性
- 11a-R-10 二種イオンプラズマ中のドリフト周波数近傍のドリフト波分散特性
- 反応性プロセシングプラズマにおける電子密度測定用平板型マイクロ波共振器プローブとシース効果
- Co/Cu及びPt/Co多層膜における構造と磁気特性のスパッタガス依存性
- Co/Cu及びPt/Co多層膜における構造と磁気特性のスパッタガス依存性(磁気記録とその展開)
- マグネトロンスパッタリングにおける高エネルギー粒子の発生過程と計測
- プラズマ対向壁のリチウムコンディショニング実験
- Radial Density Profile of Microwave Plasma for Wall Conditioning in a Purely Toroidal Magnetic Field (小特集 粒子・熱制御とプラズマ対向材料研究の進展--IEA/TEXTOR共同研究の成果と現状)
- Influence of Excitation Frequency on the Electron Distribution Function in Capacitively Coupled Discharges in Argon and Helium
- 放電洗浄の効率と不純物ガスの振舞い
- 2a-DJ-8 低温プラズマ・壁相互作用における各種粒子の分析II
- 12a-DJ-7 低温プラズマ・壁相互作用における各種粒子の分析I
- 4 プロセスプラズマの計測(シンポジウムVII : 慣性核融合炉実現の条件と課題)
- Dramatic Improvement of Surface Wave Plasma Performance Using a Corrugated Dielectric Plate : Nuclear Science, Plasmas, and Electric Discharges
- 4. 電子エネルギー分布関数とラジカル組成 (電子エネルギー分布関数とプラズマプロセス)
- プロセス用プラズマにおける励起周波数の効果
- 単純トーラス
- 材料プロセス用プラズマ技術の動向と課題(シンポジウムI : プラズマ応用技術のフロンティア)
- 新しい電子密度測定法 : プラズマ吸収プローブの特性
- Dependence of Fluorocarbon Plasma Chemistry on the Electron Energy Distribution Function
- リチウムコンディショニングによるグラファイトからの炭素スパッタの抑制
- 2. 気相および表面におけるラジカル生成のビーム実験 : 材料プロセス用フルオロカーボンプラズマに関する基礎研究の進展
- CD-ROM特別企画 動画を用いたプラズマダイナミックスの研究
- リチウムコンディショニングによる炭素不純物の抑制機構
- カラーグラビアで見るプラズマ現象
- リチウムを用いた核融合第一壁コンディショニングの基礎研究
- プラズマプロセスおよびPSIにおける水素の制御 : シンポジウム報告
- 武田進先生, ベニング賞を受賞される
- 千変万化するプラズマの姿態
- 新エッチングガスC_3HF_7Oの電子衝突断面積の測定
- 1.はじめに : 負イオンを見直そう(負イオン特集)
- 6. 表面波プラズマ大口径化(表面波励起プラズマの生成とその応用)
- 1. 序文 : 温故知新(表面波プラズマの生成とその応用)
- M. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg, Principle of Plasma Discharges and Materials Processing, John Wiley & Sons, New York, 1994, XXXVI+572p., 24×16cm, 13,900円
- 電子衝突によるC_4F_8の解離断面積の測定
- 5. 誘導結合型プラズマ(ICP)によるエッチング (ドライエッチング用プラズマ)
- 出現質量分析法によるラジカル計測
- 反応性プラズマの計測とラジカル制御の新展開
- PB-32 超高圧下での音響直進流発生と撹拌効果(P.ポスターセッションB-概要講演・展示)
- 音響直進流の解析と超高圧下での撹拌への応用
- 低圧力・高密度プラズマの新しい展開 - ECR,ヘリコン波および誘導結合型プラズマ -
- イオン性ラジカルの選択抽出と表面過程
- コーティング
- 反応性プラズマの特質と課題 (多様なプラズマ--概要と将来展望)
- 核融合炉第1壁のin situコ-ティング
- 「反応性プラズマ国際会議」報告
- Mode Conversion and Electron Heating by Oblique Injection of the Ordinary Mode into Over-Dense Plasma
- リチウムによる低Zコ-ティングと水素挙動
- Electron Heating by Oblique Injection of Ordinary Mode into Overdense Plasma
- 核融合炉第一壁のカ-ボンコ-ティング (プラズマによる膜生成とその特性評価)