回路シミュレーションの立上げと物理設計CADの実用化(<特集>プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)

概要

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松下電子工業で,設計現場のニーズに基づいて,主に次の三つのCAD開発に携わった.第一として,MOSFET集積回路専用の回路シミュレータを1973年に自社開発した.このシミュレータは,設計部門によるMOSFET集積回路全品種の新規回路の検証に必ず使われるという状況までに成長した.第二として,セル・ベース設計における海外顧客との開発プロジェクトにおいて,顧客が論理シミュレータで検証したネットリストと,設計部門がカスタム設計したセル間の配線レイアウトとの間で,それらの接続の一致を確認する配線レイアウト設計検証プログラムを1980年に開発した.同時に,ポリシリコンを含む配線レイアウトからその抵抗と容量を計算し,一つのフリップフロップ(f-f)から次のf-fまでの信号伝播パスにおける遅延計算プログラムを開発した.第三として,スタンダードセル自動配置配線プログラムを1986年に開発し,実用化した.そのフロアプランとグローバル配線及びセル配置ではシミュレーテッド・アニーリング法を使った.その後松下電器産業に転勤し,第四として主に携わったSASIMIワークショップでは,1989年の大阪における第1回から企画に加わり,1997年に近畿大学へ異動した後も,各面で深く係わるチャンスに恵まれた.2003年の広島における第11回ではジェネラル・チェアを務めた.
社団法人電子情報通信学会の論文
2004-09-20

回路シミュレーションの立上げと物理設計CADの実用化(<特集>プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)

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