内存ラティラル・バイポーラ・トランジスタの駆動力を用いたCMOS/SOIインパークの回路シミュレーション-II(信号処理, LSI, 及び一般)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
我々は、MOSFET構造に内存するラティラル・バイポーラ(LB)トランジスタの駆動力に注目した。 LBMOSのベース端子に順方向電流を供給する理想的な台形波の電流源を設け[1]、この電池原の実現にプルアップ/プルダウンMOSFETを使い[2]、ベース電流を電流増幅率βf倍したコレクタ電流により駆動力を上げるCMOSインパークの回路方式を提案した。そこでは寄生抵抗がない理想的なLBMOS素子としてその動作条件を調べた。本稿IIでは、0.35μmCMOSプロセスを前提に、ソース側で2重拡散技術[3]を使ってチャンネル(ベース)を作成するLBMOSの素子構造を提案する。β_f=100とβ_r=1を仮定して、vdd=L2Vの場合に、電流源としてプルアップ/プルダウンを使ったLBCMOSインバータで、寄生抵抗や容量を取り入れた精密な回路シミュレーション実験を行った。特にベース抵抗に加えてエミツタ接合容量の特性低下に及ぼす影響を調べる。Wn=Wp= 1.575μmのLBCMOSインバータは、従来の同寸法のCMOSインバータと比べて、5.534fF(同インバータのゲート容量)×100の大きな容量負荷に対して、10倍も高速で、1/3という低いエネルギーの動作となった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2003-06-19
著者
-
秋濃 俊郎
近畿大学生物理工学部電子システム情報工学科
-
秋濃 俊郎
近畿大学大学院生物理工学研究科
-
松浦 圭
近畿大学大学院生物理工学研究科
-
安長 章喜
近畿大学大学院生物理工学研究科電子システム情報工学専攻
関連論文
- 0.18μm SOI型CMOSプロセスに基づく高速且つ低エネルギーの横型統合CBiCMOSバッファ回路(低消費電力設計,信号処理,LSI,及び一般)
- 高耐圧1.2-μmCMOSプロセスを用いた超高速ビデオカメラ用CCD電源チップの設計(低消費電力設計,信号処理,LSI,及び一般)
- CCDクロック当り最大5nFの負荷容量を駆動する横型統合CBiCMOSバッファ回路(信号処理,LSI,及び一般)
- 非対称LDDを用いた高耐圧SOI-CMOSプロセスにおけるMOSFET・横型BJT並列動作特性の実測評価(信号処理,LSI及び一般)
- シミュレーテッド・アニーリング法に基づいた大規模ブロックにおける標準セルの最適概略配置
- 回路シミュレーションの立上げと物理設計CADの実用化(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- 速度飽和効果に基づくCMOSインバータの解析的な遅延モデル式(システムオンシリコン設計技術並びにこれを活用したVLSI)
- シミュレーテッド・アニーリング法を用いたセル概略配置の座標精度に関する検討(信号処理,LSI,及び一般)
- シミュレーテッド・アニーリング法を用いたセル概略配置の座標精度に関する検討(信号処理, LSI, 及び一般)
- 連続可変な駆動能力を実現するフレキシブル・セルのレイアウト構造とダイナミックCMOS組み合わせ論理セルへの適用
- 連続可変な駆動能力を実現するフレキシブル・セルのレイアウト構造とスタティックCMOS組み合わせ論理回路への適用
- 静的基板バイアス印加ドミノCMOS回路に基づくスーパーセルの消費電力モデル
- スーパーセルにおける配置コスト関数のモデル化
- 静的基板バイアス印加ドミノCMOS回路に基づくスーパーセルの設計 : 連続可変なトランジスタ幅の組み合せ論理セル
- 静的基板バイアス印加ドミノCMOS回路に基づくスーパーセルの設計I : トランジスタ寸法連続可変なセル・レイアウト・アーキテクチャ
- 静的基板バイアス印加ドミノCMOS回路における待機時電源切断
- 基板バイアス印加CMOS回路のエネルギー遅延積最小化スケーリング
- 基板バイアス印加ドミノCMOS回路設計I : BSIM3v3モデルに基づく回路シミュレーション
- 基盤バイアス印加CMOS回路のエネルギー遅延積最小化スケーリング
- 基盤バイアス印加ドミノCMOS回路設計I : BSIM3v3モデルに基づく回路シミュレーション
- 基板バイアス印加時のスケーリング則
- 2電源系統ダイナミックCMOSセルの回路とレイアウトの最適化I : ドミノCMOS「準スタンダード・セル」レイアウト
- DAC'98の動向 : Physical Designを中心として
- 相転移温度を利用した配置改善の一手法
- フラクタル次元を利用したVLSIレイアウト向きクラスタリング手法
- DAC'98の動向 : Physical Designを中心として
- DAC'98の動向 : Physical Designを中心として
- ラティラル統合C-BiCMOSバッファ駆動のCMOSクロック生成回路 (アナログ要素回路)
- 抵抗比型制御による統合CBiCMOSインバータの高速駆動(回路技術, 信号処理, LSI, 及び一般)
- 静的基板バイアス印加ドミノCMOS回路のスケーリング
- 非対称LDDを用いた高耐圧SOI-CMOSプロセスにおけるMOSFET・横型BJT並列動作特性の実測評価(信号処理,LSI及び一般)
- 非対称LDDを用いた高耐圧SOI-CMOSプロセスにおけるMOSFET・横型BJT並列動作特性の実測評価(信号処理,LSI及び一般)
- 0.18μm SOI型CMOSプロセスに基づく高速且つ低エネルギーの横型統合CBiCMOSバッファ回路(低消費電力設計,信号処理,LSI,及び一般)
- 高耐圧1.2-μmCMOSプロセスを用いた超高速ビデオカメラ用CCD電源チップの設計(低消費電力設計,信号処理,LSI,及び一般)
- 0.18μm SOI型CMOSプロセスに基づく高速且つ低エネルギーの横型統合CBiCMOSバッファ回路(低消費電力設計,信号処理,LSI,及び一般)
- 高耐圧1.2-μmCMOSプロセスを用いた超高速ビデオカメラ用CCD電源チップの設計(低消費電力設計,信号処理,LSI,及び一般)
- CCDクロック当り最大5nFの負荷容量を駆動する横型統合CBiCMOSバッファ回路(信号処理,LSI,及び一般)
- CCDクロック当り最大5nFの負荷容量を駆動する横型統合CBiCMOSバッファ回路(信号処理,LSI,及び一般)
- シミュレーテッド・アニーリング法を用いたセル概略配置の座標精度に関する検討(信号処理, LSI, 及び一般)
- 内存ラティラル・バイポーラ・トランジスタの駆動力を用いたCMOS/SOIインバータの回路シミュレーション-I(信号処理,LSI,及び一般)
- 内存ラティラル・バイポーラ・トランジスタの駆動力を用いたCMOS/SOIインバータの回路シミュレーション-I(信号処理, LSI, 及び一般)
- 内存ラティラル・バイポーラ・トランジスタの駆動力を用いたCMOS/SOIインバータの回路シミュレーション-I(信号処理, LSI, 及び一般)
- 回路シミュレーションの立上げと物理設計CADの実用化(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- 速度飽和効果に基づくCMOSインバータの解析的な遅延モデル式(システムオンシリコン設計技術並びにこれを活用したVLSI)
- 連続可変な駆動能力を実現するフレキシブル・セルのレイアウト構造とダイナミックCMOS組み合わせ論理セルへの適用
- 連続可変な駆動能力を実現するフレキシブル・セルのレイアウト構造とスタティックCMOS組み合わせ論理回路への適用
- 連続可変な駆動能力を実現するフレキシブル・セルのレイアウト構造とダイナミックCMOS組み合わせ論理セルへの適用
- 連続可変な駆動能力を実現するフレキシブル・セルのレイアウト構造とスタティックCMOS組み合わせ論理回路への適用
- 静的基板バイアス印加ドミノCMOS回路に基づくスーパーセルの消費電力モデル
- 静的基板バイアス印加ドミノCMOS回路に基づくスーパーセルの消費電力モデル
- スーパーセルにおける配置コスト関数のモデル化
- スーパーセルにおける配置コスト関数のモデル化
- 抵抗比型制御による新統合 BiCMOS インバータで駆動した高速ドミノ CMOS 全加算器(論理設計-3, システムオンシリコン設計技術並びにこれを活用した VLSI)
- 抵抗比型制御による新統合 BiCMOS インバータで駆動した高速ドミノ CMOS 全加算器(論理設計-3, システムオンシリコン設計技術並びにこれを活用した VLSI)
- 内存ラティラル・バイポーラ・トランジスタの駆動力を用いたCMOS/SOIインバータの回路シミュレーション-II(信号処理,LSI,及び一般)
- 内存ラティラル・バイポーラ・トランジスタの駆動力を用いたCMOS/SOIインパークの回路シミュレーション-II(信号処理, LSI, 及び一般)
- 内存ラティラル・バイポーラ・トランジスタの駆動力を用いたCMOS/SOIインパークの回路シミュレーション-II(信号処理, LSI, 及び一般)
- 抵抗比型制御による統合CBiCMOSインバータの高速駆動(回路技術, 信号処理, LSI, 及び一般)
- 抵抗比型制御による統合CBiCMOSインバータの高速駆動(回路技術, 信号処理, LSI, 及び一般)
- 静的基板バイアス印加ドミノCMOS回路に基づくスーパーセルの設計 : 連続可変なトランジスタ幅の組み合せ論理セル
- 静的基板バイアス印加ドミノCMOS回路に基づくスーパーセルの設計I : トランジスタ寸法連続可変なセル・レイアウト・アーキテクチャ
- 静的基板バイアス印加ドミノCMOS回路に基づくスーパーセルの設計I : トランジスタ寸法連続可変なセル・レイアウト・アーキテクチャ
- A-1-31 非対称LDD構造の高耐圧SOI-CMOSプロセスに基づいた統合CBiCMOS回路方式のレベルシフター(A-1.回路とシステム,一般セッション)
- 相転移温度を利用した配置改善の一手法
- 相転移温度を利用した配置改善の一手法
- 基板バイアス印加時のスケーリング則
- 基板バイアス印加時のスケーリング則
- 静的基板バイアス印加ドミノCMOS回路における待機時電源切断
- 静的基板バイアス印加ドミノCMOS回路における待機時電源切断
- 2電源系統ダイナミックCMOSセルの回路とレイアウトの最適化I : ドミノCMOS「準スタンダード・セル」レイアウト
- 2電源系統ダイナミックCMOSセルの回路とレイアウトの最適化I : ドミノCMOS「準スタンダード・セル」レイアウト