集束イオンビームを用いた酸化物超伝導体のサブミクロン加工 : YBaCuOサブミクロンラインの超伝導特性評価
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概要
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酸化物超伝導体の特性劣化を起こすことなく、デイープサブミクロン加工する技術を開発してきた。この技術によって180nm幅のYBaCuOラインの作成が可能となり、さらにそれは良好な超伝導性を示した。リソグラフィーは、集束イオンビームを用いたNb膜の微細加工法(Focused ion beam Implanted Niobium Patterning:FINP)にもとづいている。解像度100nmをもつこの技術によって微細なNbマスクを形成することができる。その後マスクパターンは、ArイオンビームエッチングにてAu, YBaCuO層に転写される。このようにして得られたラインにおける臨界電流密度の加工線幅依存性から、イオンビームエッチング時の冷却が劣化領域軽減のためには重要であることが明らかとなった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1994-04-20
著者
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