GaAs高指数基板上にMBE成長させたAlAs膜の他方向酸化 : エピタキシャル成長III
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概要
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The oxidation of AlAs was found to depend on its layer thickness. Our experiments showed that if the AlAS layer thickness was more than 100 nm, the oxidation followed a I -dimensional model, but if the thickness was from 10 to 100 nm, the characteristics didn't follow the model. The composition of Al_xGa_<1-x> As also affected the oxidation: a larger had faster oxide growth. If x exceeded 0.75, the oxide grew rapidly, but when x was between 0.45 and 0.75, there was little growth of the oxide.
- 日本結晶成長学会の論文
- 2000-07-01
著者
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