薄膜を有する金属面における摩擦,摩耗現象の分子動力学シミュレーション
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概要
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Molecular dynamics simulation is used to investigate the atomic mechanism of frictional sliding between a pin and a solid film consisting of several atomic layers on the flat surface of the substrate. The strength of the interaction of atoms in the film or between the pin and the film or the film and the substrate are modeled using virtual potentials determined by the minimum of potentials and cut-off distance. As a result, the conditions for minimizing wear are identified as follows. (1) A smaller load is needed. (2) The strength of the interaction of atoms between the pin and the film must be lower than the strength of the interaction of atoms of the film. (3) The film must have sufficiently strong interaction of atoms to prevent atomic defects in the film caused by the penetration of the pin. Results of the simulation suggest the possibility that a type of atomic wear takes place when atoms jump from the surface of the film upon compression.
- 社団法人日本機械学会の論文
- 1994-07-25
著者
-
阿部 康夫
(株)日立製作所 機械研究所
-
佐々木 直哉
(株)日立製作所機械研究所
-
岩崎 富生
(株)日立製作所機械研究所
-
岩崎 富生
(株)日立製作所 機械研究所
-
千葉 矩正
日立 機械研
-
千葉 矩正
(株)日立製作所機械研究所
-
岩崎 富生
(株)日立製作所
-
佐々木 直哉
(株)日立製作所日立研究所
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佐々木 直哉
(株)日立製作所 日立研究所
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