ゾル・ゲル法によるB_2O_3-SiO_2系コーティング薄膜の作製(3. 液相反応法)(<特集>新技術によるセラミックスの合成と評価(II))
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概要
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Alkali-free borosilicate glass films have been prepared from boron triisoproxide and silicon tetraethoxide by the sol-gel method. It was found that the optical transmission of these films decreased, accompanied with the increase in surface roughness, with increasing humidity of the atmosphere in the coating process. The X-ray diffraction patterns and the wavelength dependence of the optical loss proved that the above findings resulted from the deposition of crystalline H3BO3 by the attack of water in the atmosphere. Transparent B2O3-SiO2 films containing up to 30 mol% B2O3 were obtained in the dry atmosphere below 20% relative humidity.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 1987-02-01
著者
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