光感応性Al_2O_3ゲル膜の作製と微細パターニングへの応用
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 2G05 水酸基置換芳香族ケトンを化学修飾剤として用いる光感応性 ZrO_2 ゲル膜の作製と微細パターニング
- CH_3Si(OC_2H_5)_3を出発原料としたステンレス鋼板へのSiO_2コーティング
- 無機工業化学--n型ガラス半導体の開発 (1979年の化学-12完-)
- Bi-Ca-Sr-Cu-O系高温超伝導酸化物のガラス化および結晶化過程(ガラス化・アモルファス化・結晶化)(ガラス・アモルファス材料及びその材料科学の進展)
- 銅を含むカルコゲナイドガラスのCu^ イオン応答性電極材料としての挙動
- As_2S_3非晶質薄膜の生成過程と光学吸収端
- Ge_Bi_xSe_ 系及び Ge_Bi_xSe_Te_ 系 n 型半導電性カルコゲナイドガラスの光伝導度
- 双方向光入射による超高速連続撮影の提案
- 高温高湿環境下におけるゾル・ゲルSiO_2薄膜の物理的性質及び構造の変化
- ソーダ万灰ガラス基板上に形成したゾルーゲルTiO_2-SiO_2薄膜のアルカリパッシベイションメカニズム
- ゾル-ゲル薄膜コートガラス基板の劣化に及ぼす湿度及び温度の影響
- 有機高分子を含むゲル膜の生成と微細加工プロセスへの応用
- Precursors in Atmospheric-Pressure Chemical Vapor Deposition of Silica Films from Tetraethylorthosilicate/Ozone System
- Particle Generation and Film Formation in an Atmospheric-Pressure Chemical Vapor Deposition Reactor Using the Tetraethylorthosilicate (TEOS)/He, TEOS/O_2/He, and TEOS/O_3/He Systems
- Gas-Phase Nucleation in an Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition Process for SiO_2 Films Using Tetraethylorthosilicate (TEOS)
- 2G04 光感応性 ZrO_2 ゲル膜の化学修飾剤による特性制御
- 2I08 光感応性 SiO_2-ZrO_2 ゲル膜の作製と微細パターニング
- 光感応性ZrO_2ゲル膜の選択着色
- Effect of Alkanolamines on the Microstructure and Dielectric Properties of Lead Zirconium Titanium Trioxide Thin Films Prepared from Modified Metal Alkoxides
- ^Al NMR Study of Coordination States of Aluminum-tri-sec-butoxide Dissolved in Diacetone Alcohol
- Fabrication and Characterization of Diffraction Gratings Using Photosensitive Al_2O_3 Gel Films
- 化学修飾されたAl_2O_3ゲル膜の光感応性に対する増感剤の添加効果
- 光感応性Al_2O_3ゲル膜の作製と微細パターニングへの応用
- ベンゾイルアセトンで化学修飾されたゲル膜の光分解によるAl_2O_3薄膜のパターニング
- Photolysis of Organically Modified Gel Films and its Application to the Fine-patterning of Oxide Thin Films
- Fine-Patterning of ZrO_2 Thin Films by the Photolysis of Chemically Modified Gel Films
- Formation of Submicron Copper Sulfide Particles Using Spray Pyrolysis Method
- Preparation of Bi-Pb-Ca-Sr-Cu-O Superconducting Thick Films Using Spray-Pyrolyzed Fine Powders
- Direct Preparation of Fine Powders of the 80 K Superconducting Phase in the Bi-Ca-Sr-Cu-O System by Spray Pyrolysis
- Direct Preparation of Uniformly-Distributed YBa_2Cu_3O_ Powders by Spray-Pyrolysis : Electrical Properties of Condensed Matter
- Effects of Sb or Sn Addition on Precipitation of the High-T_c Superconducting Phase from Rapidly Quenched Bi-Pb-Ca-Sr-Cu-O Glasses
- Crystalline Phases Precipitated by Heat-Treatment of Rapidly-Quenched Glasses in the Bi-Ca-Sr-Cu-O System
- Substitution Effects of Pb for Bi on the Formation of High-T_c Superconducting Thick Films in the Bi-Pb-Ca-Sr-Cu-O System by the Melt-Solidification Method
- Instantaneous Preparation of Superconducting Thick Films through Melts in the Bi-Ca-Sr-Cu-O System : Electrical Properties of Condensed Matter
- Glass Formation of High-T_c. Compound BiCaSrCu_2O_x by Rapid Quenching : Electrical Properties of Condensed Matter
- 常圧CVD法によるZnO超微粒子の生成とその紫外線遮蔽特性
- 噴霧乾燥法による紫外線遮蔽性複合微粒子の生成とその光学特性
- 静電噴霧熱分解法による金属硫化物超微粒子の製造
- 噴霧熱分解法によるZnS-CdS系固溶体微粒子の作製
- アセト酢酸エチルによって化学修飾されたアルミニウムトリセカンダリーブトキシドから作製したAl_2O_3キセロゲル及びエアロゲルの細孔構造
- ゾル-ゲル法によるマイクロパターニング
- ゾル-ゲル法による微細パタ-ニング用有機・無機ハイブリツドゲル膜 (特集 ゾル-ゲル法による有機・無機複合材料)
- ゾル-ゲル薄膜の光微細加工 (ガラスの光微細加工)
- 光感応性ゲル膜の微細パタ-ニングへの応用
- 第7回ゲルからのガラス及びセラミックス国際ワークショップに参加して
- ゾル-ゲル法によるエレクトロニクス用薄膜の作製と特性 (ゾル-ゲル法応用技術と電気化学)
- ゾル-ゲル法による強誘電体薄膜の作製と特性
- 光学及びイオン伝導材料としてのカルコゲナイドガラス (カルコゲン化合物)
- ゾル-ゲル法による非線形光学ガラスの作製 (1991年の化学-6-)
- 酸化物高温超伝導体の合成プロセス--ガラス化法,噴霧熱分解法
- ゾルゲル法のよる安定化アルミニウムアルコキシドからの非晶質Al_2O_3薄膜の作製(ガラス・アモルファス材料及びその材料科学の進展)
- 酸化物高温超伝導体のガラス化とその特性 (1989年の化学-5-)
- カルコゲナイドガラス半導体の価電子制御と伝導機構
- ガラス基板の微細加工--ゾル-ゲル法の応用 (ニュ-ガラスとOptics)
- ゾル・ゲル法によるB_2O_3-SiO_2系コーティング薄膜の作製(3. 液相反応法)(新技術によるセラミックスの合成と評価(II))
- ゾル・ゲル法によるZrO2およびZrO2-SiO2コ-ティング薄膜の作製 (薄膜の形成と構造) -- (無機薄膜)
- ゾル-ゲル法による無機/有機複合材料の合成 (1987年の化学-4-)
- Tl-Ge-Se系カルコゲナイドガラスの生成と電気的性質
- ゾル-ゲル法による透明ホウケイ酸ガラス薄膜の作製