ゾル-ゲル法と電気泳動法を組み合わせたコーティング手法によるシリカ厚膜の作製
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概要
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Homogeneous, thick silica fimrs composed of fine parti cles were prepared in a short tirne by using an elec trophoretic deposition technique combined with the sol gel method. Electrophoretic deposition was car ried out using the silica sols derived from tetraethoxy silane hydrolyzed with water of a variety of pH; EtOH, i-PrOH, and n-PrOH were used as a solvent. In the case of pH = 11.7 and a solvent of EtOH, the maximum coating weight was attained at an applied voltage of 140 V and the thickness of the film was about 17μm. The surface of this coating film was found to be honrogeneous and smooth by SEM observation. The coating weight was roughly proportional to the charge density with nearly the same slope independent of the kind of solvents.
- 1994-04-01
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