III-V族化合物半導体エピタキシャル膜製造装置の開発
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概要
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- 資源・素材学会の論文
- 2004-05-25
著者
-
碓井 彰
古河機械金属株式会社ナイトライド事業室
-
石原 裕次郎
古河機械金属
-
松枝 敏晴
古河機械金属(株)半導体装置事業室
-
砂川 晴夫
古河機械金属(株)半導体装置事業室
-
三田 一登
古河機械金属(株)半導体装置事業室
-
塚本 佳明
古河機械金属(株)半導体装置事業室
-
柴原 資典
古河機械金属(株)半導体装置事業室
-
松枝 敏晴
古河機械金属株式会社ナイトライド事業室
-
碓井 彰
Nec光・超高周波デバイス研究所
-
碓井 彰
古河機械金属
-
塚本 佳明
古河機械金属(株)
-
砂川 晴夫
古河機械金属株式会社研究開発本部ナイトライド事業室
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碓井 彰
古河機械金属株式会社研究開発本部ナイトライド事業室
-
石原 裕次郎
古河機械金属ナイトライド事業室
-
松枝 敏晴
古河機械金属 ナイトライド事業室
-
砂川 晴夫
古河機械金属 ナイトライド事業室
-
松枝 敏晴
古河機械金属株式会社
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