III-V族化合物半導体気相成長プロセスの解明 - 実験とシミュレーション -
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概要
著者
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望月 祐志
日本電気(株)基礎研究所
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笹岡 千秋
Nec光・無線デバイス研究所
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笹岡 千秋
日本電気(株)基礎研究所
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碓井 彰
日本電気(株)基礎研究所
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碓井 彰
Nec光・超高周波デバイス研究所
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碓井 彰
古河機械金属株式会社研究開発本部ナイトライド事業室
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