極薄CoFeフリー層の飽和磁歪
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概要
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- 2001-09-01
著者
-
岩崎 仁志
(株)東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ
-
佐橋 政司
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
鴻井 克彦
(株)東芝研究開発センター
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岩崎 仁志
東芝, 研究開発センター
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鴻井 克彦
東芝, 研究開発センター
-
福澤 英明
東芝, 研究開発センター
-
上口 裕三
東芝, 研究開発センター
-
佐橋 政司
東芝, 研究開発センター
-
福澤 英明
東芝研究開発センター
-
佐藤 政司
(株)東芝研究開発センター、材料・デバイス研究所
-
佐橋 政司
東北大学 大学院工学研究科 電子工学専攻
-
上口 裕三
株式会社東芝研究開発センター
-
福澤 英明
東芝 研究開発センター
-
岩崎 仁志
東芝 研究開発センター
-
鴻井 克彦
東芝 研究開発センター
-
佐橋 政司
東芝 研究開発センター
-
上口 裕三
東芝 研究開発センター
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