福澤 英明 | 東芝研究開発センター
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概要
関連著者
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福澤 英明
東芝研究開発センター
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岩崎 仁志
(株)東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ
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佐橋 政司
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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佐藤 政司
(株)東芝研究開発センター、材料・デバイス研究所
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湯浅 裕美
東芝研究開発センター
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佐橋 政司
東北大学 大学院工学研究科 電子工学専攻
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福澤 英明
(株)東芝研究開発センター
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鴻井 克彦
(株)東芝研究開発センター
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岩崎 仁志
(株)東芝
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岩崎 仁志
東芝研究開発センター
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高岸 雅幸
(株)東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ
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佐橋 政司
(株)東芝 研究開発センター
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佐橋 政司
東北大工
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湯浅 裕美
(株)東芝研究開発センター
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上口 裕三
株式会社東芝研究開発センター
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佐橋 政司
(株)東芝
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福澤 英明
株式会社東芝 研究開発センター
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高岸 雅幸
(株)東芝
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岩崎 仁志
株式会社東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ
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岩崎 仁志
株式会社東芝 研究開発センター 記憶材料・デバイスラボラトリ
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鴻井 克彦
(株)東芝 デジタルメディアネットワーク社
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福家 ひろみ
(株)東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ
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橋本 進
(株)東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ
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鴻井 克彦
株式会社東芝 研究開発センター
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福澤 英明
東芝 研究開発センター
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岩崎 仁志
東芝 研究開発センター
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佐橋 政司
東芝 研究開発センター
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高岸 雅幸
株式会社東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ
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橋本 進
株式会社東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ
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湯浅 裕美
株式会社東芝 研究開発センター
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田中 陽一郎
株式会社東芝 コアテクノロジーセンター
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岩崎 仁志
東芝, 研究開発センター
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鴻井 克彦
東芝, 研究開発センター
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福澤 英明
東芝, 研究開発センター
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上口 裕三
東芝, 研究開発センター
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佐橋 政司
東芝, 研究開発センター
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甲野藤 真
産総研
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中村 新一
(株)東芝研究開発センター
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甲野 藤真
産総研エレクトロニクス研究部門
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船山 知己
(株)東芝,研究開発センター
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鴻井 克彦
東芝 研究開発センター
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田中 陽一郎
(株)東芝コアテクノロジーセンター
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上口 裕三
東芝 研究開発センター
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船山 知己
(株)東芝デジタルメディアネットワーク社
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田中 陽一郎
株式会社東芝
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船山 知己
(株)東芝 デジタルメディアネットワーク社
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高岸 雅幸
株式会社東芝 研究開発センター 記憶材料・デバイスラボラトリ
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橋本 進
株式会社東芝 研究開発センター 記憶材料・デバイスラボラトリ
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宝野 和博
物質・材料研究機構
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福家 ひろみ
(株)東芝研究開発センター
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伊藤 順一
(株)東芝研究開発センター
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遠藤 広明
東北大学大学院工学研究科
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土井 正晶
東北大学大学院工学研究科
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阿部 泰洋
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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富田 宏
東芝, 研究開発センター
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福家 ひろみ
東芝, 研究開発センター
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湯浅 ひろみ
東芝, 研究開発センター
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鴻井 克彦
東芝研究開発センター
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福家 ひろみ
東芝研究開発センター
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上口 裕三
東芝研究開発センター
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佐橋 政司
東芝研究開発センター
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吉川 将寿
(株)東芝 研究開発センター
-
上口 裕三
(株)東芝研究開発センター, 材料・デバイス研究所
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高橋 有紀子
物質・材料研究機構
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宝野 和博
(独)物質・材料研究機構
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宝野 和博
物材機構
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吉川 将寿
東芝 研究開発センター
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甲野藤 真
産総研エレクトロニクス研究部門
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高橋 有紀子
(独)物質・材料研究機構 磁性材料センターさきがけ-jst
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湯浅 裕美
東芝 研究開発センター
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高岸 雅幸
東芝 研究開発センター
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佐橋 政司
株式会社東芝研究開発センター
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黒崎 義成
株式会社東芝研究開発センター
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原 通子
株式会社東芝研究開発センター
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中村 新一
東芝 研開セ
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中村 新一
(株)東芝
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宝野 和博
物質・材料研究機構 磁性材料セ
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土井 正晶
東北大工
-
宝野 和博
物質・材料研究機構材料研究所ナノ組織解析グループ
-
中村 新一
東芝 研究開発センター
-
湯浅 ひろみ
東芝 研究開発センター
-
富田 宏
東芝 研究開発センター
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福家 ひろみ
(株)東芝 研究開発センター 記憶材料・デバイスラボラトリ
-
橋本 進
(株)東芝 研究開発センター 記憶材料・デバイスラボラトリ
-
藤 慶彦
東芝研究開発センター
-
原 通子
東芝研究開発センター
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佐橋 政司
東北大学大学院工学研究科 電子工学専攻
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伊藤 順一
(株)東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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佐橋 政司
東北大学大学院工学研究科
著作論文
- 22pGL-2 スピンSEMを用いた磁性多層膜の90°層間結合状態に関する可視化解析(22pGL 領域3,領域9合同 表面・界面磁性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 22pGL-2 スピンSEMを用いた磁性多層膜の90°層間結合状態に関する可視化解析(22pGL 領域3,領域9合同 表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- CCP-NOLを用いたCPP-GMRスピンバルブ膜(「磁性薄膜作製技術」)
- 電流狭窄構造によるCPP-GMRのMR変化率の増大効果
- 電流狭窄構造によるCPP-GMRのMR変化率の増大効果(垂直記録及び一般)
- Fe_Co_-NOLの磁気構造解析と90°結合
- スピンフィルタフリーを用いたNOLスペキュラスピンバルブGMRヘッド
- スピンフィルター効果のフリー層構成による比較
- CPP型スピンバルブ薄膜におけるGMR増大効果
- CPP-GMRの高記録密度用ヘッドへの適用検討
- CPP-GMRの高記録密度用ヘッドへの適用検討(シミュレーション及び一般)
- スピンバルブ構造をもつ極薄CoFeフリー層の磁歪 : 磁気ヘッド
- 極薄CoFeフリー層の飽和磁歪
- スピンフィルタースピンバルブGMRヘッド
- CCP-NOLを有するCPP-GMR膜のMR変化率とナノ微細構造の関係(スピンエレクトロニクス)
- 3DアトムプローブによるCPP-GMRスピンバルブ膜のナノ電流パス構造の観察
- 電流狭窄型ナノオキサイドレイヤーを用いたCPPスピンバルブ膜 (特集 イノベーションを支えるナノエレクトロニクス)
- Current-Confined-Path(CCP) CPP-GMR スピンバルブ膜の微細構造観察
- スピンバルブ型CPP-GMRのMRエンハンスメント : メタルベーススピンバルブにおける磁性層の役割
- Ion-assisted oxidationによる極薄FeCo系酸化物を有するスペキュラースピンバルブ膜の高性能化
- スピンバルブ型CPP-GMRのMRエンハンスメント : メタルベーススピンバルブにおける磁性層の役割
- Ion-assisted oxidationによる極薄FeCo系酸化物を有するスペキュラースピンバルブ膜の高性能化
- 高密度記録GMRヘッド対応の磁区制御技術
- 狭トラック幅GMRヘッド対応のハードバイアス膜
- 高感度及び高速応答の磁界センサを実現するZnウスタイト スピンフィルタ素子
- Znウスタイトスピンフィルタリング層による磁気抵抗効果の増大