上口 裕三 | (株)東芝研究開発センター, 材料・デバイス研究所

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概要

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関連著者

• 上口 裕三

  (株)東芝研究開発センター, 材料・デバイス研究所

• 上口 裕三

  株式会社東芝研究開発センター

• 佐橋 政司

  (株)東芝 研究開発センター

• 佐藤 政司

  (株)東芝研究開発センター、材料・デバイス研究所

• 佐橋 政司

  (株)東芝

• 湯浅 裕美

  (株)東芝研究開発センター

• 湯浅 裕美

  東芝研究開発センター

• 佐橋 政司

  (株)東芝研究開発センター

• 岩崎 仁志

  (株)東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ

• 福家 ひろみ

  (株)東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ

• 福家 ひろみ

  (株)東芝研究開発センター

• 佐橋 政司

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 福澤 英明

  (株)東芝研究開発センター

• 福澤 英明

  東芝研究開発センター

• 中村 新一

  (株)東芝研究開発センター

• 佐橋 政司

  東北大学 大学院工学研究科 電子工学専攻

• 中村 新一

  (株)東芝

• 岩崎 仁志

  (株)東芝

• 福家 ひろみ

  (株)東芝 研究開発センター 記憶材料・デバイスラボラトリ

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著作論文

• IrMn/CoFeスピンバルブGMRの耐熱性
• デュアル構造をもつNOLスペキュラ・スピンバルブ
• NOLスペキュラ・スピンバルブのMR特性
• 高密度記録GMRヘッド対応の磁区制御技術

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