橋本 進 | (株)東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
橋本 進
(株)東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ
-
高岸 雅幸
(株)東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ
-
岩崎 仁志
(株)東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ
-
岩崎 仁志
東芝研究開発センター
-
福家 ひろみ
(株)東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ
-
橋本 進
(株)東芝 研究開発センター 記憶材料・デバイスラボラトリ
-
岩崎 仁志
(株)東芝
-
高岸 雅幸
(株)東芝
-
山田 健一郎
(株)東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ
-
高岸 雅幸
株式会社東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ
-
橋本 進
株式会社東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ
-
岩崎 仁志
株式会社東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ
-
福家 ひろみ
(株)東芝 研究開発センター 記憶材料・デバイスラボラトリ
-
岩崎 仁志
株式会社東芝 研究開発センター 記憶材料・デバイスラボラトリ
-
高岸 雅幸
株式会社東芝 研究開発センター 記憶材料・デバイスラボラトリ
-
橋本 進
株式会社東芝 研究開発センター 記憶材料・デバイスラボラトリ
-
福家 ひろみ
(株)東芝研究開発センター
-
鴻井 克彦
(株)東芝研究開発センター
-
福澤 英明
東芝研究開発センター
-
湯浅 裕美
東芝研究開発センター
-
山田 健一郎
(株)東芝 研究開発センター 記憶材料・デバイスラボラトリ
-
福家 ひろみ
株式会社東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリー
-
福澤 英明
株式会社東芝 研究開発センター
-
湯浅 裕美
株式会社東芝 研究開発センター
-
鴻井 克彦
株式会社東芝 研究開発センター
-
田中 陽一郎
株式会社東芝 コアテクノロジーセンター
-
佐橋 政司
(株)東芝 研究開発センター
-
田中 陽一郎
(株)東芝コアテクノロジーセンター
-
田中 陽一郎
株式会社東芝
-
福家 ひろみ
株式会社東芝 研究開発センター 記憶材料・デバイスラボラトリ
-
三宅 耕作
東北大工
-
河崎 昌平
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
三宅 耕作
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
佐橋 政司
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
福澤 英明
(株)東芝研究開発センター
-
湯浅 裕美
(株)東芝研究開発センター
-
伊藤 順一
(株)東芝研究開発センター
-
佐藤 政司
(株)東芝研究開発センター、材料・デバイス研究所
-
佐橋 政司
東芝総研
-
與田 博明
(株)東芝 研究開発センター
-
佐橋 政司
東北大学 大学院工学研究科 電子工学専攻
-
與田 博明
(株)東芝
-
與田 博明
東芝
-
坂田 浩実
(株)東芝、研究開発センター
-
佐橋 政司
(株)東芝研究開発センター
-
佐橋 政司
東芝・総研
-
佐橋 政司
東芝 研開セ
-
佐橋 政司
東北大工
-
佐橋 政司
(株)東芝
-
三宅 耕作
東北大学大学院工学研究科
-
館山 公一
(株)東芝 研究開発センター
-
坂田 浩実
(株)東芝 研究開発センター
-
橋本 進
東芝
-
鴻井 克彦
(株)東芝 デジタルメディアネットワーク社
-
佐橋 政司
東北大学大学院工学研究科 電子工学専攻
-
伊藤 順一
(株)東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
-
佐橋 政司
東北大学大学院工学研究科
著作論文
- 1平方インチあたり2テラビット以上の記録密度でのCPP-MR素子の要求特性(記録システムおよび一般)
- 垂直通電スピンバルブ型ナノコンタクト磁気抵抗効果膜
- スピンバルブ構造を持ったFeCoナノコンタクトMR(記録システムおよび一般)
- スピンバルブ構造を持ったFeCoナノコンタクトMR(記録システム及び一般)
- FeCoナノコンタクトを用いたCPPスピンバルブの磁気抵抗効果(垂直磁気記録及び一般)
- FeCoナノコンタクトを用いたCPPスピンバルブの磁気抵抗効果 (マルチメディアストレージ)
- CCP-NOLを用いたCPP-GMRスピンバルブ膜(「磁性薄膜作製技術」)
- 電流狭窄構造によるCPP-GMRのMR変化率の増大効果
- 電流狭窄構造によるCPP-GMRのMR変化率の増大効果(垂直記録及び一般)
- 1平方インチあたり2テラビット以上の記録密度でのCPP-MR素子の要求特性(記録システム及び一般)
- 1平方インチあたり2テラビット以上の記録密度でのCPP-MR素子の要求特性
- 磁極分離構造記録ヘッドの狭トラック加工性と記録特性
- 記録密度5Tbpsiに向けた再生ヘッドデザイン (マルチメディアストレージ)
- 記録密度5Tbpsiに向けた再生ヘッドデザイン(媒体,一般)
- 高分解能・高SNを両立する再生ヘッドの将来技術