鴻井 克彦 | (株)東芝研究開発センター

スポンサーリンク

概要

• 鴻井 克彦の詳細を見る
• 同名の論文著者
• (株)東芝研究開発センターの論文著者

関連著者

• 岩崎 仁志

  (株)東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ

• 鴻井 克彦

  (株)東芝研究開発センター

• 福澤 英明

  東芝研究開発センター

• 高岸 雅幸

  (株)東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ

• 佐橋 政司

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 佐藤 政司

  (株)東芝研究開発センター、材料・デバイス研究所

• 佐橋 政司

  東北大学 大学院工学研究科 電子工学専攻

• 湯浅 裕美

  東芝研究開発センター

• 岩崎 仁志

  (株)東芝

• 鴻井 克彦

  (株)東芝 デジタルメディアネットワーク社

• 岩崎 仁志

  東芝研究開発センター

• 福澤 英明

  (株)東芝研究開発センター

• 湯浅 裕美

  (株)東芝研究開発センター

• 上口 裕三

  株式会社東芝研究開発センター

• 高岸 雅幸

  (株)東芝

• 橋本 進

  (株)東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ

• 岩崎 仁志

  株式会社東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ

• 福澤 英明

  株式会社東芝 研究開発センター

• 鴻井 克彦

  株式会社東芝 研究開発センター

• 吉川 将寿

  (株)東芝 研究開発センター

• 吉川 将寿

  東芝 研究開発センター

• 佐橋 政司

  東北大工

• 船山 知己

  (株)東芝デジタルメディアネットワーク社

• 岩崎 仁志

  株式会社東芝 研究開発センター 記憶材料・デバイスラボラトリ

• 福家 ひろみ

  (株)東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ

• 高岸 雅幸

  株式会社東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ

• 橋本 進

  株式会社東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリ

• 湯浅 裕美

  株式会社東芝 研究開発センター

• 田中 陽一郎

  株式会社東芝 コアテクノロジーセンター

• 岩崎 仁志

  東芝, 研究開発センター

• 鴻井 克彦

  東芝, 研究開発センター

• 福澤 英明

  東芝, 研究開発センター

• 上口 裕三

  東芝, 研究開発センター

• 佐橋 政司

  東芝, 研究開発センター

• 佐橋 政司

  (株)東芝 研究開発センター

• 船山 知己

  (株)東芝,研究開発センター

• 福澤 英明

  東芝 研究開発センター

• 岩崎 仁志

  東芝 研究開発センター

• 鴻井 克彦

  東芝 研究開発センター

• 佐橋 政司

  東芝 研究開発センター

• 田中 陽一郎

  (株)東芝コアテクノロジーセンター

• 佐橋 政司

  (株)東芝

• 田中 陽一郎

  株式会社東芝

• 船山 知己

  (株)東芝 デジタルメディアネットワーク社

• 高岸 雅幸

  株式会社東芝 研究開発センター 記憶材料・デバイスラボラトリ

• 橋本 進

  株式会社東芝 研究開発センター 記憶材料・デバイスラボラトリ

• 伊藤 順一

  (株)東芝研究開発センター

• 富田 宏

  東芝, 研究開発センター

• 福家 ひろみ

  東芝, 研究開発センター

• 湯浅 ひろみ

  東芝, 研究開発センター

• 鴻井 克彦

  東芝研究開発センター

• 福家 ひろみ

  東芝研究開発センター

• 上口 裕三

  東芝研究開発センター

• 佐橋 政司

  東芝研究開発センター

• 高岸 雅幸

  東芝、研究開発センター

• 鴻井 克彦

  東芝、研究開発センター

• 吉川 将寿

  東芝、研究開発センター

• 船山 知己

  東芝、研究開発センター

• 岩崎 仁志

  東芝、研究開発センター

• 佐橋 政司

  東芝、研究開発センター

• 湯浅 裕美

  東芝 研究開発センター

• 高岸 雅幸

  東芝 研究開発センター

• 坂久保 武男

  (株)東芝研究開発センター

• 福沢 英明

  (株)東芝

• 高岸 雅行

  (株)東芝

• 佐橋 政司

  株式会社東芝研究開発センター

• 福沢 英明

  (株)東芝研究開発センター

• 上口 裕三

  東芝 研究開発センター

• 湯浅 ひろみ

  東芝 研究開発センター

• 富田 宏

  東芝 研究開発センター

• 橋本 進

  (株)東芝 研究開発センター 記憶材料・デバイスラボラトリ

• 伊藤 順一

  (株)東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

もっと見る 閉じる

著作論文

• CCP-NOLを用いたCPP-GMRスピンバルブ膜(「磁性薄膜作製技術」)
• 電流狭窄構造によるCPP-GMRのMR変化率の増大効果
• 電流狭窄構造によるCPP-GMRのMR変化率の増大効果(垂直記録及び一般)
• スピンフィルタフリーを用いたNOLスペキュラスピンバルブGMRヘッド
• スピンフィルター効果のフリー層構成による比較
• シミュレーションによるCPP-GMR素子のHDDへの適用検討
• CPP型スピンバルブ薄膜におけるGMR増大効果
• スピンバルブタイプCPPGMRにおける出力増大効果
• CPP-GMRの高記録密度用ヘッドへの適用検討
• CPP-GMRの高記録密度用ヘッドへの適用検討(シミュレーション及び一般)
• ナノ酸化物層(NOL)技術による垂直通電型巨大磁気抵抗効果(CPP-GMR)素子の作製
• スピンバルブ構造をもつ極薄CoFeフリー層の磁歪 : 磁気ヘッド
• 極薄CoFeフリー層の飽和磁歪
• スピンフィルタースピンバルブGMRヘッド

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク