高濃度Siドープ窒化アルミニウムからの高いフィールドエミッション電流密度
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概要
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- 日本表面科学会の論文
- 2002-01-10
著者
-
小林 直樹
日本電信電話株式会社 Nttサイバースペース研究所
-
小林 直樹
日本電信電話株式会社ntt物性科学基礎研究所
-
嘉数 誠
Ntt物性科学基礎研究所
-
小林 直樹
日本電信電話(株)ntt物性科学基礎研究所
-
嘉数 誠
日本電信電話(株)NTT物性科学基礎研究所
-
嘉数 誠
日本電信電話株式会社ntt物性科学基礎研究所
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