ガラス基板上のAl膜のストレスマイグレーションの制御
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 1999-05-01
著者
-
辻本 勝浩
九州大学超高圧電子顕微鏡室
-
高辻 博史
日本アイ・ビー・エム(株)
-
辻 智
日本アイ・ビー・エム株式会社大和事業所
-
坂 公恭
名古屋大学
-
春田 和宏
名古屋大学工学研究科
-
鈴木 幸伸
名古屋大学工学研究科
-
高辻 博史
日本IBM(株)
-
辻本 勝浩
日本IBM(株)
-
辻 智
日本IBM(株)
-
辻 智
日本アイ・ビー・エム(株)
関連論文
- 0.2%Al-Znめっき鋼板の合金化処理によるめっき構造の変化
- 自動車排気ガス浄化用助触媒における酸素吸放出過程のその場観察
- 自動車排ガス浄化用助触媒β-Ce_2Zr_2O_の高分解能像と電子損失エネルギー分光スペクトル
- 酸素欠損を含んだ自動車排ガス浄化用助触媒(β-Ce_2Zr_2O_)の高分解能像
- Ce_2Zr_2O_7とβ-Ce_2Zr_2O_の結晶構造
- 電子エネルギー損失分光法によるセリア-ジルコニア固溶体の規則相の解析
- セリア-ジルコニア固溶体の酸素吸収挙動と酸素欠陥
- Ce_2Zr_2O_における酸素の吸収挙動とCe_2Zr_2O_相の生成
- 還元したCeO_2-ZrO_2固溶体の室温での発熱を伴う急激な酸化反応
- 水蒸気による希土類系水素吸蔵合金の表面酸化
- 水蒸気中で加熱したMmNi_5合金粉末の微細構造と材料特性
- 水蒸気中で加熱したMmNi_5合金粉末の表面層の微細構造
- 環境TEM周辺技術の開発と応用
- 名古屋大学超高圧電子顕微鏡グループのイノベーション事業の成果
- 人間工学設計・評価に基づいた液晶ディスプレイの画像品位測定手法
- 5-8 液晶ディスプレイの輝度ムラ評価方法
- 電子線ホログラフィーによる電界効果トランジスタ内二次元電位分布解析
- 22pXB-7 電子線ホログラフィによるシリコン p-n 接合電位分布計測の物理的意味
- FIBを用いた無機膜の微構造解析
- 透過型電子顕微鏡による溶融亜鉛めっき鋼板の断面観察
- TEMによるシリカ・ジルコニアガス分離膜の微構造観察
- Zn融体/Fe反応界面のその場加熱観察
- FIB装置による溶融亜鉛めっき鋼板のTEM観察
- TEM による Fe-Zn 金属間化合物相の同定
- Fe-Zn系金属間化合物δ_とδ_相の機械的性質と微細組織
- Fe-Zn系金属間化合物Γ相の転位組織と規則度の変化
- Fe-Zn系金属間化合物ΓとΓ_1相の育成と機械的な性質
- Siダイオードアレイターゲットによる高エネルギー電子線撮像
- 超音波振動による発生したシリコン転位の電子顕微鏡観察
- 特集企画にあたって
- 2B-4 カラー液晶ディスプレイ用TFTの故障解析技術(第3回信頼性研究発表会REAJ)
- 半導体デバイスにおけるSn-Ag-CuおよびSn-Ag-Cu-Biはんだと無電解Ni-Pとの接合界面のTEM観察
- 半導体デバイスにおけるSn-Agはんだと無電解Ni-Pとの接合界面のTEM観察
- 透過電子顕微鏡による融解・凝固のその場観察
- ACF接続における導電性粒子の変形問題に対する断面構造解析と数値解析
- 透過型電子顕微鏡を用いたガス雰囲気下高温その場観察
- 影像歪法による試料中の電場・磁場の観察
- 液晶ディスプレイの故障解析へのFIB/TEMの応用
- 10-9 超高感度分析装置のマッピングデータの可視化
- 液晶ディスプレイのムラの定量評価手法の検討
- 透過型電子顕微鏡および有限要素法によるACF接続における導電性粒子変形のマイクロ・キャラクタリゼーション
- 集束イオンビームによる断面TEM試料作製
- 電子線ホログラフィーによる相補型 MOS(Complementary MOS) デバイス断面のドーパント分布解析
- 電子線ホログラフィーと集束イオンビームを用いた電界効果トランジスタ(MOSFET)断面の2次元電位分布解析
- シリコンデバイスにおける微少リークパスの FIB/TEM による解析
- 18pTH-6 電子線ホログラフィによるMOSFET断面の電位分布解析
- FIB照射により発生するGa析出物の電子顕微鏡観察
- 生きている半導体デバイスを観察するためのFIB加工技術の開発
- くさび形研磨とウェットエッチングによるシリサイド薄膜試料製作
- 電子顕微鏡写真展「ミクロの世界」および電子顕微鏡教室を開催して
- Sn合金の融解・凝固過程のその場TEM観察
- SrTiO_3の室温変形転位組織の透過電子顕微鏡観察
- 小特集の企画にあたって
- SPMによる引掻き試験でシリコン単結晶に生じた微構造変化のTEM観察
- 電子線ホログラフィーによる p-n 接合の観察
- シリコン単結晶のマイクロ磨耗
- シリコン単結晶のマイクロ摩耗特性と摩耗組織
- プラズモンロス像を用いた高温における動的元素マッピング
- 透過型電子顕微鏡による材料の組織およびプロセス評価における最近の進歩
- 合金化溶融亜鉛めっき鋼板における合金相の形成機構
- 材料工学における科研費申請
- 透過型電子顕微鏡による表面・界面の解析
- 転動疲労により生成した白色異常組織
- 転動疲労を受けた鋼中の亀裂近傍における微細組織
- 透過型電子顕微鏡法による材料評価
- 液晶ディスプレイの製造工程におけるFIB/TEMの活用
- 無電解めっきNiP/はんだ接合過程のその場TEM観察
- 半導体デバイスにおける半田接合界面のTEM観察
- LCD用Al配線上に発生したウィスカー, ヒロックの平面TEM観察
- 私が教科書を書いた理由
- 結晶中の格子欠陥のTEMによる解析
- 亀裂および亀裂周辺の欠陥構造の電顕平面観察
- VII. CVD超高硬度材料ダイヤモンド膜の微細構造
- マイクロマニピュレータを用いたTEM試料作製法の検討
- 特集「マイクロトライボロジー」(基礎から材料工学への応用)
- 江戸時代後期の木版画に使われた鉛丹の変色と化学組成の変化
- T0302-2-5 Si単結晶中の転位の透過型電子顕微鏡による解析([T0302-2]高信頼マイクロ・ナノデバイスのための設計・計測技術(2):応力・ひずみ計測)
- ガラス基板上のAl膜のストレスマイグレーションの制御
- 透過型電子顕微鏡法によるα-Si_3N_4ウイスカーの微細構造の解析(セラミックスの微細構造)
- FIB/TEM法を用いた江戸後期漆器の着色顔料の微細構造解析
- Cu配線の軌跡・奇跡
- 転位セル構造の形成による単結晶YAGの強靭化
- 断面 TEM 解析の液晶ディスプレイ実装技術への応用
- MNM-3A-6 透過型電子顕微鏡によるSi単結晶の転位の観察(セッション 3A 単結晶・多結晶シリコンの疲労寿命評価とメカニズムの解明)
- a-Si 薄膜トランジスタの電顕観察中の界面現象
- 米国大企業も勧めるタグチメソッド
- 労少なくデータ多しの実験計画法の勧め
- その場電顕観察法
- 低転位密度の金属単結晶 (結晶成長(特集))
- 電子顕微鏡観察内その場観察による固液界面観察
- タイトル無し
- 何でも見てやろう