小宮 宗治 | 日本真空技術(株)
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概要
関連著者
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小宮 宗治
日本真空技術(株)
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小宮 宗治
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成沢 忠
日本真空
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日本真空
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東大物性研
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東大物性研
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村田 好正
学習院大理
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阪大工
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日本真空技術(株)技術開発部
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日本真空技術(株)技術開発部
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林 主税
日本真空技術(株)超材料研究所
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水野 正保
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林 主税
日本真空技術 (株)
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大阪市立大学
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佐賀大学理工学部
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福岡大学理学部
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日本真空技術(株)
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神戸大学工学部
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原研
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原研
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東大工
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柴田 猛順
原研
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原研
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東京理科大学工学部電気工学科
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原研核融合
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東京理科大学工学部
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北海道大学工学部
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電子技術総合研究所
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高エネルギー加速器研究機構
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横浜国立大学工学部
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鳳 紘一郎
電子技術総合研究所
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電子技術総合研究所
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小貫 英雄
電子技術総合研究所
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宗村 哲雄
東京理科大学工学部電気工学科
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学習院大理
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大阪府立工業技術研究所
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国分 清秀
電子技術総合研究所
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曽根 和穂
原研
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山田 礼司
原研
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水野 正保
日本真空
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兼松 太
大阪市立大学工学部
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平田 正紘
電子技術総合研究所
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小林 正典
高エネルギー加速器研究機構
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原研 NBIグループ
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原研 NBIグループ
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石丸 肇
高エネルギー物理学研究所
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神戸大学工学部
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日本真空技術株式会社
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高エネルギー加速器研究機構(KEK)
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高エネルギー物理学研究所
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中村 久三
日本真空技術(株) 千葉超材研
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赤石 憲也
日本真空技術(株)
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成沢 忠
日本真空K.K.
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山田 太起
日本真空技術(株)超材料研究所
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佐藤 弘信
日本真空技術(株)
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金戸 成
(株)大阪真空機器製作所
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中村 和幸
日本原子力研究所
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成島 勝也
高エネルギー物理学研究所
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藤原 邦雄
東大教養
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渡辺 文夫
桜の聖母学院高等学校
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堀越 源一
高エネルギー物理学研
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斎藤 駿次
日立製作所茂原工場
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鈴木 行男
日立製作所茂原工場
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荒川 一郎
東京大学生産技術研究所
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金 文沢
東京大学生産技術研究所
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小川 倉一
大阪府立工業技術研究所
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白形 弘文
原研 那珂研
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滝口 勝美
大阪府立工業技術研究所
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吉川 秀司
日本真空技術
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成沢 忠
日本眞空(株)
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小宮 宗治
日本眞空(株)
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成沢 忠
日本眞空技術(株)
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小宮 宗治
日本眞空技術(株)
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山口 博司
高エネルギー物理学研究所
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渡部 広美
高エネルギー物理学研究所
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八木 邦夫
大阪市立大学工学部
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大石 健司
横浜国立大学工学部
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斉藤 茂
東京理科大学
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藤岡 俊昭
日本真空技術株式会社
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杉浦 英雄
日本電信電話公社 茨城電気通信研究所
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山口 真史
日本電信電話公社 茨城電気通信研究所
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渋川 篤
日本電信電話公社 茨城電気通信研究所
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四谷 任
大阪府立工業技術研究所
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黄 福全
日本真空技術株式会社
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及川 永
(株)大阪真空機器製作所
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山田 禮司
原研
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新井 明男
神戸大学工学部応用物理
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茂原 利男
(株)真空電子
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浦野 俊夫
神戸大学工学部応用物理
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山科 俊郎
北海道大学
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辻 泰
東京大学生産技術研究所
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村上 義夫
日本原子力研究所
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西田 啓一
大阪酸素工業 (株) 中央研究所
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佐竹 徹
北海道大学工学部
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久保 富夫
高エネルギー物理学研究所
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塩山 忠義
大阪府立工業技術研究所
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中西 弘
高エネルギー物理学研究所
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毛利 衛
北海道大学工学科
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山本 純也
大阪大学低温センター
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橋場 正男
北海道大学工学科
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伊藤 昭夫
日本真空技術 (株) 超材料研究所
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渡辺 文夫
桜の聖母学院高校
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三角 明
日立製作所
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菊池 正志
日本真空技術(株)
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小松 清
日本真空技術株式会社
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橋本 秀則
福岡大学理学部 応用物理学科
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北村 英男
高エネルギー物理学研究所
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後藤 正敏
大阪酸素工業(株)中央研究所
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本田 達朗
神戸大学工学部応用物理
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Grosse G.
桜の聖母学院高等学校
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Messer G.
桜の聖母学院高等学校
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Wandrey D.
桜の聖母学院高等学校
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岡本 貢
大阪酸素工業(株)中央研究所
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渡辺 広美
高エネルギー物理学研究所
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木下 時重
日本シード研究所
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Manos Dennis
日本電信電話公社茨城電気通信研究所
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BUDNY Robert
日本電信電話公社茨城電気通信研究所
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COHEN Sam
日本電信電話公社茨城電気通信研究所
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北田 雅嗣
横浜国立大学工学部
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駒形 和行
日本真空技術(株)
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谷野 浩史
電子技術総合研究所
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阿刀田 伸史
電子技術総合研究所
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山田 太起
日本真空技術(株)
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前田 高雄
東京理科大学
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宗村 哲雄
東京理科大学
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渋川 篤
日本電信電話公社茨城電気通信研究所
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中村 久三
日本真空技術(株)
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太田 賀文
日本真空技術(株)
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藤岡 俊昭
日本真空技術(株)
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古屋 貴章
高エネルギー物理学研究所
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西田 啓一
大阪酸素工業(株)中央研究所
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山口 真史
日本電信電話公社茨城電気通信研究所
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籠田 和徳
佐賀大学理工学部 電子工学科
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小松 清
日本真空技術(株)
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林 俊雄
日本真空技術
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林 俊雄
日本真空技術(株)
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宇佐美 誠二
横浜国立大
著作論文
- 中低速電子の結晶によるエネルギー損失の測定装置 : X線粒子線
- 5軸型低速電子回折計の試作 : X線粒子線
- 6p-D-12 低エネルギープロトン(0.1〜6KeV)によるMo,Cのスパッタリング収率
- 原子吸光式モニタ- (最近の膜厚モニタ-技術(技術ノ-ト))
- 超高真空冷陰極真空計の比較 : 真空
- CVDのフロ-解析
- 二次イオン質量分析法(SIMS) (微少領域の分析(技術ノ-ト))
- 表面分析 (微少領域の分析(技術ノ-ト))
- 6p-V-3 Si/貴金属界面での金属性Si(SIMS)
- 14a-P-10 Si-貴金属系に生じる金属性シリコンのAES(オージェ電子分光)
- AESによるSi結晶表面の化学分析
- スパッタ・イオンポンプの試作 : 真空
- 第7回真空科学国際会議および第3回固体表面国際会議
- 2次イオン質量分析法による固体表面の観察 (固体表面の新しい研究方法)
- 5a-R-6 水素排気用10,000l/secクライオポンプ
- SIMS (表面微量分析の問題点(技術ノ-ト))
- 25a-G-3 AES法による半導体(基板)-金属(蒸着薄膜)系の界面構造観測
- 12a-R-10 Si(基板)-Au(膜)系での低温反応により生じる合金層のAuger 電子分光による観測
- アブストラクト
- 光イオン化質量分析-ラジカルの検出-
- 低速電子回折装置の製作 : 粒子線・X線
- 基盤技術と新製品開発(新製品開発)
- 超高真空技術の進歩
- 極高真空をつくる
- 多目的四重型質量分析計
- 水晶発振式モニタ- (最近の膜厚モニタ-技術(技術ノ-ト))
- PVDを利用した新材料開発の動向
- SIMSにおける二次イオン放出イオン放出機構--自己電離過程モデルを中心として
- HCD法による蒸着技術