岸田 悟 | 鳥取大学電子ディスプレイ研究センター
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概要
関連著者
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岸田 悟
鳥取大学電子ディスプレイ研究センター
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木下 健太郎
鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻
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岸田 悟
鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻
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岸田 悟
鳥取大学工学部電気電子工学科
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岸田 悟
鳥大工
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岸田 悟
鳥取大学大学院工学研究科
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岸田 悟
鳥取大 大学院工学研究科
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依田 貴稔
鳥取大学工学部電気電子工学科
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木下 健太郎
鳥取大学大学院工学研究科
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田中 隼人
鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻
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牧野 達也
鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻
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木下 健太郎
鳥取大学電気電子工学科
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岸田 悟
鳥取大学大学院 工学研究科
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土橋 一史
鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻
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岸田 悟
鳥取大学
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依田 貴稔
鳥取大学電気電子工学科
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依田 貴稔
鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻
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花田 明紘
鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻
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佐々木 貴啓
鳥取大学工学部附属電子ディスプレイ研究センター(tedrec):シャープ株式会社モバイル液晶事業本部
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花田 明紘
鳥取大学大学院
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佐々木 貴啓
富士通株式会社
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土橋 一史
鳥取大学電気電子工学科
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佐々木 貴啓
北見工業大学工学部電子工学科
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木下 健太郎
鳥取大学
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大観 光徳
鳥取大学工学部
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田中 章浩
鳥取大学大学院工学研究科
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長谷川 弘
鳥取大学大学院工学研究科
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奥谷 匠
鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻
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岸田 悟
鳥取大学電気電子工学科
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大観 光徳
鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻
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大西 俊輔
鳥取大学大学院工学研究科
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田中 彰浩
島取大学大学院工学研究科:鳥取大学工学部付属電子ディスプレイ研究センター(tedrec)
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福原 貴博
島取大学大学院
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鶴田 茂之
鳥取大学工学部電気電子工学科
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平田 吉春
鳥取大学医学部附属病院放射線部
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小林 光
鳥取大学大学院工学研究科
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檜木 利雄
鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻
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吉田 大一郎
鳥取県産業技術センター
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出口 恭平
鳥取大学工学部
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佐々木 貴啓
鳥取大学工学部附属電子ディスプレイ研究センター(TEDREC)
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山田 聖悟
島取大学医学部附属病院放射線部
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岸田 悟
鳥取大 工
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福間 眞澄
松江工業高等専門学校
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木下 健太郎
島取大学大学院工学研究科
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岸田 悟
島取大学大学院工学研究科
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三浦 雅和
島根県警察本部 科学捜査研究所
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大西 俊輔
島取大学大学院工学研究科:鳥取大学工学部付属電子ディスプレイ研究センター(tedrec)
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北村 健一
鳥取大学工学部電気電子工学科
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田中 隼人
鳥取大学大学院
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松原 勝彦
島取大学大学院
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中林 竜也
鳥取大学工学部電気電子工学科
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福原 貴博
鳥取大学大学院
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高 相圭
鳥取大学電気電子工学科
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福原 貴博
鳥取大学電気電子工学科
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福島 整
物質・材料研究機構物質研究所
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福島 整
科学技術庁無機材質研究所
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渡部 徹
松江工業高等専門学校情報工学科
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牧野 達也
鳥取大学電気電子工学科
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平田 吉春
鳥取大学医学部附属病院 放射線部
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福島 整
無機材研
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福島 整
独立行政法人物質・材料研究機構 ナノ計測センター先端表面化学分析グループ
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高橋 智一
鳥取県産業技術センター
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吉田 大一郎
鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻
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山田 聖悟
鳥取大学医学部附属病院・放射線部
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田沼 繁夫
独立行政法人物質・材料研究機構 ナノ計測センター先端表面化学分析グループ
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岸田 悟
鳥取大学 工学部
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岩井 秀夫
独立行政法人物質・材料研究機構
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長谷川 弘
鳥取大学電子ディスプレイ研究センター(TEDREC)
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平田 吉春
島取大学医学部附属病院放射線部
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田中 彰浩
島取大学大学院工学研究科
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大西 俊輔
島取大学大学院工学研究科
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田沼 繁夫
独立行政法人物質・材料研究機構
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福島 整
無機材質研究所
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渡部 徹
松江工高専
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田沼 繁夫
物質・材料研究機構ナノ計測センター
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岩井 秀夫
立命館大理工:アルバックファイ
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岩井 秀夫
物質・材料研究機構
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萩原 俊弥
物質・材料研究機構
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福島 整
物質・材料研究機構
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山田 聖悟
鳥取大学医学部附属病院
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花田 明紘
島取大学大学院
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田沼 繁夫
物質・材料研究機構
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松原 勝彦
鳥取大学大学院
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北村 健一
鳥取大学電気電子工学科
-
田中 章浩
島取大学大学院工学研究科:鳥取大学工学部付属電子ディスプレイ研究センター(tedrec)
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岸田 悟
鳥取大学 大学院 工学研究科 情報システム専攻
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吉原 幹貴
鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻
-
福間 眞澄
松江工業高等専門学校 電気工学科
-
渡部 徹
松江工業高等専門学校
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高 相圭
鳥取大学
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澤居 優圭
鳥取大学
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岸田 悟
鳥取大学:鳥取大学電子ディスプレイ研究センター
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長谷川 祥
鳥取大学
-
榎本 優太郎
鳥取大学
-
福原 貴博
鳥取大学
-
鶴田 茂之
鳥取大学
著作論文
- 声紋による個人認証システムの構築
- 階層型ニューラルネットワークを用いた声紋による個人認証システムの構築
- GaドープZnO薄膜における不揮発性抵抗変化現象の成膜雰囲気依存性
- 大面積透明フレキシブルオールGaドープZnO抵抗変化メモリ(ReRAM)の作製と評価
- フォーミングを必要としない抵抗変化メモリ(ReRAM)の作製に関する研究
- 高周波マグネトロンスパッタ法によるBaTiO_3/Pt自立膜の作製と評価
- NiOを用いた抵抗変化型メモリ(ReRAM)の結晶性とメモリ特性
- BaTiO_3自立薄膜におけるクラック密度の低減と配向性の成長基板温度依存性
- ニューラルネットワークを用いた胸部X線画像の異常検出システム
- ニューラルネットワークを用いた声紋認証システムにおける入力層ユニット数の効果
- マニューシャ法により得られた指紋の特徴点とニューラルネットワーク用いた認証システムの構築
- 二次電子像によるC-AFM抵抗書き込み領域識別技術の適用によるReRAM動作機構の解明(シリコン関連材料の作製と評価)
- 胸部X線画像の異常位置検出へのニューラルネットワークの適用 (ニューロコンピューティング)
- 原子間力顕微鏡を用いたReRAMフィラメントの物性解析 (集積回路)
- 二元系遷移金属酸化物ReRAMにおける各抵抗状態の相関関係の分析 (集積回路)
- 原子間力顕微鏡を用いた遷移金属酸化物におけるメモリ効果の機構解明 (表面分析研究会 第36回研究会 講演資料)
- 二次電子像によるC-AFM抵抗書き込み領域識別技術の適用によるReRAM動作機構の解明
- フォーミングフリー抵抗変化型メモリにおけるリセット電流と初期抵抗値の普遍的な関係
- 胸部X線画像の異常位置検出へのニューラルネットワークの適用
- マルチステップニューラルネットワークを用いた声紋認証システムの構築
- 二元系遷移金属酸化物ReRAMにおける各抵抗状態の相関関係の分析(不揮発性メモリ,メモリ(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
- ペロブスカイト酸化物系ReRAMのスイッチングメカニズム(不揮発性メモリ,メモリ(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
- 原子間力顕微鏡を用いたReRAMフィラメントの物性解析(不揮発性メモリ,メモリ(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
- HfO_2-CB-RAMの基本メモリ特性(不揮発性メモリ,メモリ(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
- ReRAMの物性評価と基本メモリ特性の制御(シリコン関連材料の作製と評価)
- 銅酸化物高温超伝導体単結晶を用いた抵抗変化メモリのスイッチングメカニズム
- 遷移金属酸化物における抵抗スイッチング現象と二次電子放出効率との相関関係
- HfO_2-CB-RAMの基本メモリ特性(集積エレクトロニクス)
- ニューラルネットワークを用いた肺野X線像の異常陰影検出システムの高性能化
- 胸部X線画像の異常検出システムの性能に及ぼすニューラルネットワークの入力層ユニット数の影響
- 遷移金属酸化物抵抗変化メモリ(ReRAM)におけるフィラメント分布と動作特性の関係
- 電気配線用PVCの高温領域における空間電荷形成と絶縁破壊
- 長時間加熱したPVCの高温領域での空間電荷形成と絶縁破壊
- 微細キャパシタ構造における抵抗変化メモリ（ReRAM）のフィラメント特性
- 微細領域に閉じ込められたReRAMフィラメントのメモリ特性(シリコン関連材料の作製と評価)
- HfO2-Conducting-Bridge memoryにおけるリセットパラメータの相関関係(シリコン関連材料の作製と評価)
- 微細キャパシタ構造における抵抗変化メモリ(ReRAM)のフィラメント特性