中石 雅文 | 富士通(株)
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概要
関連著者
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河野 隆宏
富士通(株)
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中石 雅文
富士通(株)
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宮嶋 基守
富士通(株)
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清水 紀嘉
富士通研究所
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中村 友二
富士通研究所
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中村 友二
(株)富士通研究所
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水島 賢子
株式会社富士通研究所
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中田 義弘
株式会社富士通研究所
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射場 義久
富士通株式会社
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水島 賢子
富士通研究所
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酒井 久弥
富士通マイクロエレクトロニクス
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水島 賢子
東京大学大学院工学系研究化総合研究機構
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杉井 寿博
(株)富士通研究所
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清水 紀嘉
(株)富士通研究所
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二木 俊郎
株式会社富士通研究所
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杉井 寿博
富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
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杉井 寿博
富士通研究所
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筑根 敦弘
(株)富士通研究所
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大場 隆之
東京大学大学院工学系研究科総合研究機構
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北田 秀樹
東京大学大学院工学系研究科総合研究機構
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工藤 寛
富士通研究所
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筑根 敦弘
富士通研究所
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大塚 信幸
富士通研究所
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鈴木 貴志
富士通研究所
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田平 貴裕
富士通研究所
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二木 俊郎
富士通研究所
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清水 紀嘉
株式会社富士通研究所集積材料研究部
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中村 友二
株式会社富士通研究所集積材料研究部
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大場 隆之
東京大学
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杉井 寿博
富士通研究所 デバイス開発部
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大塚 信幸
(株)富士通研究所
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酒井 久弥
富士通(株)
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田平 貴裕
(株)富士通研究所
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三沢 信裕
富士通株式会社
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杉浦 巌
株式会社富士通研究所
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杉本 文利
富士通株式会社
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西川 伸之
富士通株式会社
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福山 俊一
富士通株式会社
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矢野 映
株式会社富士通研究所
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宮嶋 基守
富士通株式会社
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鈴木 貴志
株式会社 富士通研究所
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大塚 敏志
富士通株式会社プロセス開発部
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射場 義弘
富士通株式会社
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説田 雄二
富士通株式会社
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酒井 久弥
富士通株式会社
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小浦 由美子
富士通株式会社
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鈴木 貴志
株式会社富士通研究所
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北田 秀樹
株式会社富士通研究所
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中野 憲司
富士通株式会社
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柄沢 章孝
富士通株式会社
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大倉 嘉之
富士通株式会社
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河野 隆宏
富士通株式会社
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綿谷 宏文
富士通株式会社
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中井 聡
富士通株式会社
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中石 雅文
富士通株式会社
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射場 義久
富士通マイクロエレクトロニクス
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大塚 敏志
富士通株式会社
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石川 健治
富士通研究所
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石川 健治
富士通研究所(株)ファブテクノロジ研究部
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尾崎 史朗
富士通研究所
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中田 義弘
富士通研究所
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中石 雅文
富士通マイクロエレクトロニクス
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秋山 深一
富士通マイクロエレクトロニクス
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林 雅一
富士通マイクロエレクトロニクス
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河野 隆宏
富士通マイクロエレクトロニクス
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岩田 浩
富士通マイクロエレクトロニクス
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杉井 寿博
富士通マイクロエレクトロニクス
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北田 秀樹
東京大学大学院工学系研究化総合研究機構
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中村 友二
株式会社富士通研究所
著作論文
- 45nmノード以降に適用可能なCu配線用PVDバリアメタル技術(配線・実装技術と関連材料技術)
- 65nm node以降へ向けたNCS/Cu多層配線
- 有機酸ドライクリーニングによるコンタクトビア形成による歩留まり・信頼性の向上