安藤 裕二 | NECナノエレクトロニクス研究所
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概要
関連著者
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NEC ULSIデバイス開発研究所
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(財)新機能素子研究開発協会 先進高周波デバイスr&dセンター
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笠原 健資
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羽山 信幸
Nec
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國弘 和明
Nec光・超高周波デバイス研究所
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財団法人新機能素子研究開発協会:日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所
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大野 泰夫
徳島大学大学院ソシオテクノサイエンス研究部
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国弘 和明
日本電気(株)
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國弘 和明
日本電気株式会社システムipコア研究所
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國弘 和明
日本電気株式会社グリーンプラットフォーム研究所
著作論文
- AlGaN/GaN HJFET における低抵抗コンタクト形成とK帯高出力特性
- 分極電荷中和構造を用いた高い閾値制御性を有するAlGaN/GaN HFET
- 閾値電圧制御性に優れたノーマリオフAlGaN/GaN HFET(化合物半導体デバイス及び超高周波デバイス/一般)
- 閾値電圧制御性に優れたノーマリオフAlGaN/GaN HFET(化合物半導体デバイス及び超高周波デバイス/一般)
- 閾値電圧制御性に優れたノーマリオフAlGaN/GaN HFET