佐倉 直喜 | Nec関西エレクトロニクス研究所
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概要
関連著者
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佐倉 直喜
Nec関西エレクトロニクス研究所
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松永 高治
財団法人新機能素子研究開発協会:日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所
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金森 幹夫
Nec Ulsiデバイス開研
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金森 幹夫
Nec Ulsiデバイス開発研究所
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岩田 直高
NEC関西エレクトロニクス研究所
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岩田 直高
NECエレクトロニクス株式会社化合物デバイス事業部
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葛原 正明
NEC関西エレクトロニクス研究所
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金森 幹夫
NEC化合物デバイス事業部
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金森 幹夫
NEC関西エレクトロニクス研究所
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葛原 正明
(財)新機能素子研究開発協会 先進高周波デバイスr&dセンター
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石倉 幸治
Necエレクトロニクス株式会社化合物デバイス事業部
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麻埜 和則
NECエレクトロニクス株式会社化合物デバイス事業部
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高橋 潔
NEC ULSIデバイス開発研究所
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佐倉 直喜
NEC ULSIデバイス開発研究所
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岩田 直高
NEC 関西エレクトロニクス研究所
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筒井 宏彰
NEC ULSIデバイス開発本部
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岩田 直高
日本電気(株)関西エレクトロニクス研究所
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松永 高治
NEC関西エレクトロニクス研究所
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葛原 正明
NEC 関西エレクトロニクス研究所
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松永 高治
日本電気
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竹中 功
NECエレクトロニクス株式会社化合物デバイス事業部
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石倉 幸治
NEC ULSIデバイス開発研究所
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竹中 功
NEC ULSIデバイス開発研究所
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麻埜 和則
NEC化合物デバイス事業部
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上村 和義
NEC ULSIデバイス開発研究所
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溝江 准
日本電気株式会社 モバイルワイヤレス事業部
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宇野沢 浩精
NEC ULSIデバイス開発研究所
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溝江 准
NEC C&C LSI開発本部
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永井 慶次
NEC C&C LSI開発本部
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麻埜 和則
NEC ULSIデバイス開発研究所
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葛原 正明
Nec 関西エレクトロニクス研
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筒井 宏明
NEC ULSIデバイス開発研究所
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望月 晃
NEC ULSIデバイス開発研究所
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石倉 幸冶
NEC ULSIデバイス開発研究所
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松永 高冶
NEC関西エレクトロニクス研究所
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筒井 宏彰
Nec Ulsiデバイス開発研究所
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佐倉 直喜
NEC 関西エレクトロニクス研究所
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松永 高冶
NEC 関西エレクトロニクス研究所
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永井 慶次
Nec C&c Lsi開発本部
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望月 晃
日本電気エンジニアリング(株)
著作論文
- L帯100W高電圧動作FP-HFET
- ソース電極バイアホールを有する0.18μmAu/WSiゲートHJFETによるミリ波帯MMIC技術
- スパイラルインダクタ特性の配線膜厚依存性検討
- C-10-7 FP構造HFETのL帯50W高電圧動作
- C-10-8 フィールドプレートを有する高電圧動作高出力HJFET