棚本 哲史 | (株)東芝研究開発センター
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概要
関連著者
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棚本 哲史
(株)東芝研究開発センター
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藤田 忍
東芝研究開発センター
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棚本 哲史
東芝研究開発センター
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大場 竜二
東芝研究開発センター
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大場 竜二
(株)東芝セミコンダクター社
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大場 竜二
東芝研究開発センターlsi基盤技術研究所
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藤田 忍
(株)東芝
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造田 安民
東京工科大学
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安田 心一
東芝研究開発センター
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藤田 忍
(株)東芝研究開発センター
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斉藤 好昭
(株)東芝 研究開発センター
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井口 智明
(株)東芝 研究開発センター
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斉藤 好昭
株式会社東芝研究開発センター
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大場 竜二
(株)東芝 LSI基盤技術ラボラトリー
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棚本 哲史
東芝研開セ
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内田 建
東芝研究開発センター (株)東芝
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安田 心一
(株)東芝研究開発センター
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斉藤 好昭
東芝 研開セ
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斉藤 好昭
(株)東芝研究開発センター
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成瀬 雄二郎
東芝研究開発センター
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藤田 忍
大阪市立大学
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安部 恵子
東芝 研究開発センター
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津田 邦男
東芝研究開発センター
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杉山 英行
(株)東芝 研究開発センター
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加藤 理一
東芝研究開発センター
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造田 安民
東芝研究開発センター
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野津 哲郎
東芝研究開発センター
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Hu X.
ニューヨーク州立大
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Liu Y.
理研
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Nori F.
理研
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小原 正生
東芝 研究開発センター
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古賀 淳二
東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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野崎 華恵
(株)東芝研究開発センター
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野崎 華恵
東芝研究開発センター
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松本 麻里
東芝研究開発センター
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丸亀 孝生
(株)東芝研究開発センター
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石川 瑞恵
(株)東芝研究開発センター
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加藤 理一
(株)東芝 研究開発センター
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古賀 淳二
東芝研究開発センターlsi基盤技術研究所
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古賀 淳二
東芝
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安部 恵子
(株)東芝
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斉藤 好昭
東芝
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高橋 茂樹
東芝研究開発センター
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池川 純夫
(株)東芝研究開発センター
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與田 博明
(株)東芝
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内田 建
(株)東芝 LSI基盤技術ラボラトリー
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古賀 淳二
(株)東芝 LSI基盤技術ラボラトリー
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佐波 実
東芝研究開発センター
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浩田 安民
東芝研究開発センター
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小原 正生
東芝研究開発センター
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造田 安民
東芝総研
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棚本 哲史
東芝総研
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野津 哲郎
東芝総研
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津田 邦男
東芝総研
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小原 正生
東芝総研
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西 義史
(株)東芝研究開発センター・LSI基盤技術ラボラトリー
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野崎 華恵
東芝研究開発センターコンピュータ・ネットワークラボラトリー
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内田 建
東芝研究開発センター
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安田 心一
株式会社東芝研究開発センター
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棚本 哲史
株式会社東芝研究開発センター
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大場 竜二
株式会社東芝研究開発センター
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安部 恵子
株式会社東芝研究開発センター
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野崎 華恵
株式会社東芝研究開発センター
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藤田 忍
株式会社東芝研究開発センター
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下村 尚治
(株)東芝
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池上 一隆
東芝研究開発センター
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藤田 忍
東芝研開セ
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Li Yu-Xi
理研
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安部 恵子
(株)東芝研究開発センター
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内田 建
(株)束芝LSI基盤技術ラボラトリー
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棚本 哲史
(株)束芝LSI基盤技術ラボラトリー
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古賀 淳二
(株)束芝LSI基盤技術ラボラトリー
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大場 竜二
(株)束芝LSI基盤技術ラボラトリー
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安田 心一
(株)束芝LSI基盤技術ラボラトリー
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藤田 忍
(株)束芝LSI基盤技術ラボラトリー
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高橋 茂樹
(株)東芝 研究開発センター
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藤田 忍
大阪市立大学生活科学部居住環境学科
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下村 尚治
(株)東芝研究開発センター
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下村 尚治
東芝研究開発センター
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池川 純夫
東芝研究開発センター
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與田 博明
東芝 研開セ
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Nori F.
理研:ミシガン大
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與田 博明
東芝エレクトロニクス韓国社
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松本 麻里
(株)東芝研究開発センター
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池川 純夫
東芝エレクトロニクス韓国社
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藤田 忍
(株)東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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藤田 忍
株式会社東芝 研究開発センター
-
安部 恵子
株式会社東芝 研究開発センター
著作論文
- 情報セキュリティ向け超小型物理乱数生成回路(回路技術(一般, 超高速・低電力・高機能を目指した新アーキテクチャ))
- 29pYA-14 単一電子素子による二量子ビットの観測理論(量子ドット(伝導理論・スピン効果・量子リング))(領域4)
- 22aTH-3 量子ポイントコンタクトによる二量子ビットの観測理論
- 27aYN-3 結合量子ドットによる量子ゲートと電界効果による測定過程
- 4a-J-1 共鳴トンネルのバレー電流 : 光学模型の改良II
- 4p-J-1 共鳴トンネルのバレー電流 : 光学模型の改良II
- 量子配線QICの基礎検討
- 量子配線の概念拡張に関する基礎検討
- 12a-K-6 共鳴トンネルのバレー電流 : 光学模型の改良
- 30p-N-7 共鳴トンネルのバレー電流に対する非弾性散乱の影響II
- 26a-ZG-8 共鳴トンネルのバレー電流に対する非弾性散乱の影響
- 24pTH-7 非一様環境下における電荷量子ビットクラスター状態のロバスト性(量子ドット(理論),領域4,半導体,メゾスコピック系・局在)
- 20pRC-9 電荷量子ビットにおけるファノ-近藤効果(量子ドット,領域4,半導体,メゾスコピック系・局在)
- C-12-43 SiN MOSFETと論理ゲートから構成される物理乱数生成回路(C-12. 集積回路ABC(測定・評価),一般セッション)
- 24aXJ-3 電荷及び磁束量子ビットにおけるクラスター状態の形成方法(24aXJ 微小接合,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- 超小型乱数発生素子 (特集 イノベーションを支えるナノエレクトロニクス)
- 19pWF-2 電荷量子ビットのデコヒーレンス・フリー状態への局所的不均一性の効果(量子ドット,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- 12pYC-9 量子細線脇におかれた量子ドットの伝導に与える効果(量子細線, 領域 4)
- 暗号セキュリティ向け乱数生成回路用シリコンナノデバイス
- [招待講演]シリコン単電子素子とその応用
- [招待講演]シリコン単電子素子とその応用
- 28a-F-12 量子ドットにおける共鳴トンネル磁気抵抗効果の解析
- 不揮発再構成可能な回路へのスピンMOSFETの応用(低電圧/低消費電力技術,新デバイス・回路とその応用)
- 不揮発再構成可能な回路へのスピンMOSFETの応用(高信頼技術,低電圧/低消費電力技術,新デバイス・回路とその応用)
- 12a-K-6 共鳴トンネルのバレー電流 : 光学模型の改良
- セキュリティネットワークを支える物理乱数生成技術[IV] : 先端半導体デバイスを用いた物理乱数生成回路
- 先端メモリ及びロジックICへ向けたスピンMOSFET技術